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X射线光栅相位衬度成像实验方法及光栅相关研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-21页
    1.1 X射线成像第11-12页
    1.2 X射线相位衬度成像第12-16页
    1.3 X射线光栅相位衬度成像第16-18页
    1.4 几何投影式相衬成像以及光栅需求第18-19页
    1.5 本论文研究内容及研究方法第19-21页
第2章 高衬度低剂量X射线光栅相位衬度成像系统第21-33页
    2.1 国家同步辐射实验室X射线光栅相位衬度成像装置第21-23页
    2.2 X射线光栅相位衬度成像装置控制系统第23-26页
    2.3 X射线光栅相位衬度成像装置图像处理平台第26-28页
    2.4 数据采集及步进扫描程序优化第28-33页
第3章 X射线光栅相位衬度成像元器件光栅的研制第33-45页
    3.1 相衬成像光栅的研究背景第33-35页
    3.2 X射线相位衬度成像光栅制造工艺第35-38页
    3.3 光栅加工难题和改善方法的研究第38-40页
        3.3.1 导致光栅缺陷的成因分析第38页
        3.3.2 防止光栅结构损坏的解决方法探究第38-40页
    3.4 光栅结构辅助分析第40-42页
    3.5 光栅加工结果第42-45页
第4章 光栅加工缺陷在成像系统中的检测第45-57页
    4.1 光栅缺陷的成像信息第45-47页
    4.2 光栅缺陷的实验检测第47-51页
    4.3 条纹成因分析第51-53页
    4.4 光栅的质量检测第53-54页
    4.5 一种无损检测方法第54-57页
第5章 总结与展望第57-59页
参考文献第59-65页
致谢第65-67页
在读期间发表的学术论文或取得的其他研究成果第67页

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