| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 二硫化钼 | 第10-20页 |
| 1.2.1 二硫化钼的结构和性能 | 第10-12页 |
| 1.2.2 二硫化钼的制备方法 | 第12-17页 |
| 1.2.3 二硫化钼的应用 | 第17-20页 |
| 1.3 石墨烯 | 第20-23页 |
| 1.3.1 石墨烯的结构和性能 | 第20-21页 |
| 1.3.2 石墨烯的制备方法 | 第21-23页 |
| 1.3.3 石墨烯的应用 | 第23页 |
| 1.4 二硫化钼/石墨烯层状组装体的制备方法 | 第23-27页 |
| 1.4.1 水热合成法 | 第24-25页 |
| 1.4.2 物理组装法 | 第25-26页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第26-27页 |
| 1.5 立题依据和主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 化学气相沉积法制备双层二硫化钼 | 第28-44页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-31页 |
| 2.2.1 实验原料与试剂 | 第28-29页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第29页 |
| 2.2.3 实验方法 | 第29-30页 |
| 2.2.4 表征与测试 | 第30-31页 |
| 2.3 大面积双层二硫化钼薄膜的可控生长 | 第31-37页 |
| 2.3.1 双温区管式炉装置示意图 | 第31-32页 |
| 2.3.2 实验过程及生长机制 | 第32-33页 |
| 2.3.3 不同参数对二硫化钼薄膜形貌的影响 | 第33-37页 |
| 2.4 双层二硫化钼薄膜的表征 | 第37-43页 |
| 2.4.1 形貌分析 | 第37-39页 |
| 2.4.2 拉曼分析 | 第39-40页 |
| 2.4.3 光学分析 | 第40-41页 |
| 2.4.4 XRD分析 | 第41页 |
| 2.4.5 XPS分析 | 第41-42页 |
| 2.4.6 电学性能分析 | 第42-43页 |
| 2.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 化学气相沉积法制备双层二硫化钼/石墨烯层状组装体及其光电结构研究 | 第44-56页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 实验部分 | 第44-47页 |
| 3.2.1 实验原料和试剂 | 第44-45页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第45页 |
| 3.2.3 实验步骤 | 第45-46页 |
| 3.2.4 表征与测试 | 第46-47页 |
| 3.3 双层二硫化钼/石墨烯层状组装体的结构表征测试与分析 | 第47-52页 |
| 3.3.1 宏观形貌表征 | 第47-48页 |
| 3.3.2 微观形貌分析 | 第48-49页 |
| 3.3.3 拉曼（Raman）分析 | 第49-50页 |
| 3.3.4 XRD分析 | 第50-51页 |
| 3.3.5 XPS分析 | 第51-52页 |
| 3.4 双层二硫化钼/石墨烯层状组装体的光电结构研究 | 第52-55页 |
| 3.4.1 I-V曲线分析 | 第52-54页 |
| 3.4.2 光开关测试 | 第54-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 全文总结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
