基于电化学沉积法的碲化铋纳米材料的可控制备与表征
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 相变存储器概述 | 第11-14页 |
| 1.3 碲化铋相变纳米材料进展 | 第14-21页 |
| 1.4 本文选题意义及研究内容 | 第21-22页 |
| 2 FTO导电玻璃上碲化铋薄膜电化学控制生长 | 第22-30页 |
| 2.1 材料合成与制备 | 第22-24页 |
| 2.2 碲化铋薄膜表征 | 第24-28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-30页 |
| 3 电化学沉积法制备碲化铋纳米线阵列 | 第30-42页 |
| 3.1 多孔氧化铝模板的制备 | 第30-35页 |
| 3.2 电化学沉积BI-TE纳米线阵列 | 第35-40页 |
| 3.3 碲化铋纳米线的生长机理 | 第40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 4 电化学沉积法制备碲化铋纳米管阵列 | 第42-51页 |
| 4.1 特殊结构多孔氧化铝模板的制备 | 第42-44页 |
| 4.2 电化学沉积碲化铋纳米管 | 第44-47页 |
| 4.3 多孔氧化铝孔径对纳米线成分的影响 | 第47-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 5 总结与展望 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 附录 1(攻读学位期间发表学术成果目录) | 第60页 |