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RTP及Nb/Yb:RTP晶体的生长、电子结构与性能表征

中文摘要第10-13页
ABSTRACT第13-15页
第一章 绪论第17-26页
    1.1 引言第17页
    1.2 RTP型晶体简介第17-18页
    1.3 掺质RTP晶体的研究进展第18-19页
    1.4 X-射线光电子能谱技术(XPS)在晶体材料研究中的应用第19-22页
        1.4.1 晶体成分及元素价态的分析第20-21页
        1.4.2 元素化学环境及占位情况第21页
        1.4.3 金属—氧键合情况第21页
        1.4.4 总结第21-22页
    1.5 高温溶液法简介第22页
    1.6 生长设备第22-24页
    1.7 本论文的研究目的及内容第24-26页
第二章 纯RTP晶体的生长、结构及性能表征第26-39页
    2.1 引言第26页
    2.2 晶体生长第26-29页
    2.3 基本性质表征第29-38页
        2.3.1 结构表征第29-34页
        2.3.2 热学性能表征第34-36页
        2.3.3 光学性能测试第36-38页
    2.4 本章小结第38-39页
第三章 Nb、Yb单掺RTP晶体的生长及表征第39-46页
    3.1 引言第39页
    3.2 晶体生长第39-40页
    3.3 结构、性能表征第40-45页
        3.3.1 物相与组成分析第40-41页
        3.3.2 电子结构研究第41-43页
        3.3.3 光谱学性能测试第43-45页
    3.4 本章小结第45-46页
第四章 Nb/Yb双掺RTP晶体的生长探索及其电子结构、光谱性能研究第46-64页
    4.1 引言第46页
    4.2 晶体生长第46-47页
    4.3 WO_3和MoO_3对晶体生长的影响第47-49页
    4.4 组成与结构分析第49-53页
        4.4.1 物相分析第49页
        4.4.2 组成第49-50页
        4.4.3 X射线摇摆曲线第50-51页
        4.4.4 电子结构研究第51-53页
    4.5 吸收和发光性能第53-57页
        4.5.1 吸收性能第53-54页
        4.5.2 荧光光谱第54-57页
    4.6 后处理对晶体结构的影响第57-62页
        4.6.1 X射线衍射分析第57-58页
        4.6.2 摇摆曲线第58-59页
        4.6.3 吸收光谱第59-60页
        4.6.4 氧含量测试第60页
        4.6.5 电子自旋共振分析第60-61页
        4.6.6 X射线光电子能谱分析第61-62页
    4.7 本章小结第62-64页
第五章 Rb_2Ti_(1.95)Yb_(0.05)(PO_4)_3晶体的生长、电子结构及性能表征第64-72页
    5.1 引言第64页
    5.2 晶体生长第64-65页
    5.3 X射线粉末衍射第65页
    5.4 化学成分和电子结构分析第65-68页
        5.4.1 化学成分第65-66页
        5.4.2 电子结构第66-68页
    5.5 性能表征第68-71页
        5.5.1 光谱研究第68页
        5.5.2 热学性能第68-70页
        5.5.3 二次谐波测试第70-71页
    5.6 本章小结第71-72页
第六章 总结与展望第72-75页
    6.1 主要结论第72-73页
    6.2 主要创新点第73-74页
    6.3 有待深入研究的工作第74-75页
参考文献第75-83页
攻读学位期间发表的学术论文第83-84页
攻读学位期间获得的荣誉和奖励第84-85页
致谢第85-86页
学位论文评阅及答辩情况表第86页

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