中文摘要 | 第10-13页 |
ABSTRACT | 第13-15页 |
第一章 绪论 | 第17-26页 |
1.1 引言 | 第17页 |
1.2 RTP型晶体简介 | 第17-18页 |
1.3 掺质RTP晶体的研究进展 | 第18-19页 |
1.4 X-射线光电子能谱技术(XPS)在晶体材料研究中的应用 | 第19-22页 |
1.4.1 晶体成分及元素价态的分析 | 第20-21页 |
1.4.2 元素化学环境及占位情况 | 第21页 |
1.4.3 金属—氧键合情况 | 第21页 |
1.4.4 总结 | 第21-22页 |
1.5 高温溶液法简介 | 第22页 |
1.6 生长设备 | 第22-24页 |
1.7 本论文的研究目的及内容 | 第24-26页 |
第二章 纯RTP晶体的生长、结构及性能表征 | 第26-39页 |
2.1 引言 | 第26页 |
2.2 晶体生长 | 第26-29页 |
2.3 基本性质表征 | 第29-38页 |
2.3.1 结构表征 | 第29-34页 |
2.3.2 热学性能表征 | 第34-36页 |
2.3.3 光学性能测试 | 第36-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-39页 |
第三章 Nb、Yb单掺RTP晶体的生长及表征 | 第39-46页 |
3.1 引言 | 第39页 |
3.2 晶体生长 | 第39-40页 |
3.3 结构、性能表征 | 第40-45页 |
3.3.1 物相与组成分析 | 第40-41页 |
3.3.2 电子结构研究 | 第41-43页 |
3.3.3 光谱学性能测试 | 第43-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-46页 |
第四章 Nb/Yb双掺RTP晶体的生长探索及其电子结构、光谱性能研究 | 第46-64页 |
4.1 引言 | 第46页 |
4.2 晶体生长 | 第46-47页 |
4.3 WO_3和MoO_3对晶体生长的影响 | 第47-49页 |
4.4 组成与结构分析 | 第49-53页 |
4.4.1 物相分析 | 第49页 |
4.4.2 组成 | 第49-50页 |
4.4.3 X射线摇摆曲线 | 第50-51页 |
4.4.4 电子结构研究 | 第51-53页 |
4.5 吸收和发光性能 | 第53-57页 |
4.5.1 吸收性能 | 第53-54页 |
4.5.2 荧光光谱 | 第54-57页 |
4.6 后处理对晶体结构的影响 | 第57-62页 |
4.6.1 X射线衍射分析 | 第57-58页 |
4.6.2 摇摆曲线 | 第58-59页 |
4.6.3 吸收光谱 | 第59-60页 |
4.6.4 氧含量测试 | 第60页 |
4.6.5 电子自旋共振分析 | 第60-61页 |
4.6.6 X射线光电子能谱分析 | 第61-62页 |
4.7 本章小结 | 第62-64页 |
第五章 Rb_2Ti_(1.95)Yb_(0.05)(PO_4)_3晶体的生长、电子结构及性能表征 | 第64-72页 |
5.1 引言 | 第64页 |
5.2 晶体生长 | 第64-65页 |
5.3 X射线粉末衍射 | 第65页 |
5.4 化学成分和电子结构分析 | 第65-68页 |
5.4.1 化学成分 | 第65-66页 |
5.4.2 电子结构 | 第66-68页 |
5.5 性能表征 | 第68-71页 |
5.5.1 光谱研究 | 第68页 |
5.5.2 热学性能 | 第68-70页 |
5.5.3 二次谐波测试 | 第70-71页 |
5.6 本章小结 | 第71-72页 |
第六章 总结与展望 | 第72-75页 |
6.1 主要结论 | 第72-73页 |
6.2 主要创新点 | 第73-74页 |
6.3 有待深入研究的工作 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-83页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第83-84页 |
攻读学位期间获得的荣誉和奖励 | 第84-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第86页 |