用于细胞导入的MEMS聚焦超声波器件的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第11-13页 |
| 1.2 MUT国内外研究现状 | 第13-21页 |
| 1.2.1 MUT在超声成像领域的研究 | 第13-17页 |
| 1.2.2 MUT在指纹识别方面的应用 | 第17-18页 |
| 1.2.3 MUT在光声成像中的研究 | 第18-19页 |
| 1.2.4 MUT在基因导入与药物递送领域的研究 | 第19-21页 |
| 1.3 本文主要研究内容及意义 | 第21页 |
| 1.4 本章小结 | 第21-23页 |
| 第二章 曲面压电薄膜超声换能器的设计和仿真 | 第23-37页 |
| 2.1 压电效应的历史与发展 | 第23-24页 |
| 2.2 压电振动基础 | 第24-29页 |
| 2.2.1 描述压电效应的物态方程 | 第24-25页 |
| 2.2.2 常见压电材料及其特点 | 第25-27页 |
| 2.2.3 压电振子的振动形式 | 第27-29页 |
| 2.3 曲面压电结构的优越性 | 第29-31页 |
| 2.4 PMUT谐振频率的设计 | 第31-34页 |
| 2.4.1 谐振频率的理论计算 | 第31-33页 |
| 2.4.2 谐振频率的数值计算 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-37页 |
| 第三章 超声换能器阵列的加工 | 第37-55页 |
| 3.1 球冠结构的加工 | 第37-41页 |
| 3.1.1 球冠结构加工方法概述 | 第37-39页 |
| 3.1.2 压印法球冠结构的加工 | 第39-40页 |
| 3.1.3 改进的钢珠压印方法 | 第40-41页 |
| 3.2 上下电极和氧化锌的制作 | 第41-49页 |
| 3.2.1 常用的氧化锌沉积方法磁控溅射的特点 | 第41-44页 |
| 3.2.2 氧化锌溅射的最佳条件的摸索 | 第44-49页 |
| 3.3 磁控溅射基底材料的选择 | 第49-52页 |
| 3.4 内凹曲面换能器的制作 | 第52页 |
| 3.5 微管道的制作及系统集成 | 第52-54页 |
| 3.5.1 软压印方法的特点 | 第52-53页 |
| 3.5.2 芯片键合与系统组装 | 第53-54页 |
| 3.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 超声换能器阵列的测试和实验 | 第55-67页 |
| 4.1 氧化锌的表征 | 第55-59页 |
| 4.1.1 表面粗糙度和截面的SEM表征 | 第55-56页 |
| 4.1.2 氧化锌薄膜的择优取向表征 | 第56-57页 |
| 4.1.3 电学参数的测量 | 第57-59页 |
| 4.2 换能器振动性能的表征 | 第59-62页 |
| 4.2.1 测量装置 | 第59-60页 |
| 4.2.2 厚度的影响 | 第60-61页 |
| 4.2.3 曲率半径的影响 | 第61页 |
| 4.2.4 驱动电压的影响 | 第61-62页 |
| 4.3 微管道内的基因导入实验 | 第62-65页 |
| 4.3.1 实验装置与步骤 | 第62-64页 |
| 4.3.2 实验结果与分析 | 第64-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 研究总结 | 第67-68页 |
| 5.2 下一步工作计划 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 攻读硕士期间科研成果 | 第81页 |
