| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 微弧氧化技术 | 第12-20页 |
| 1.2.1 微弧氧化概述 | 第12-13页 |
| 1.2.2 微弧氧化膜生长机制 | 第13-16页 |
| 1.2.3 微弧氧化影响因素 | 第16-17页 |
| 1.2.4 微弧氧化缺陷修复研究现状 | 第17-20页 |
| 1.3 层状双金属氢氧化物 | 第20-21页 |
| 1.3.1 金属表面层状双金属氢氧化物的研究 | 第20页 |
| 1.3.2 阳极氧化膜表面层状双金属氢氧化物的研究 | 第20-21页 |
| 1.4 硅烷化处理 | 第21-30页 |
| 1.3.1 硅烷化概述 | 第21页 |
| 1.3.2 硅烷膜成膜机制 | 第21-23页 |
| 1.3.3 硅烷膜成膜影响因素 | 第23-24页 |
| 1.3.4 硅烷化处理研究进展 | 第24-30页 |
| 1.5 本论文的研究目的及意义 | 第30-31页 |
| 1.6 本论文的研究内容 | 第31页 |
| 1.7 本论文的创新点 | 第31-32页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第32-40页 |
| 2.1 实验材料 | 第32-34页 |
| 2.1.1 实验用主要原材料 | 第32-33页 |
| 2.1.2 实验用主要试剂 | 第33-34页 |
| 2.2 微弧氧化膜层的制备 | 第34页 |
| 2.3 微弧氧化膜表面LDH的制备工艺 | 第34-35页 |
| 2.4 微弧氧化/硅烷化复合膜层的制备 | 第35页 |
| 2.5 羟基化预处理工艺 | 第35页 |
| 2.6 铝合金微弧氧化膜电化学辅助硅烷化工艺 | 第35-36页 |
| 2.7 膜层微观组织结构及成分分析 | 第36-37页 |
| 2.7.1 膜层厚度测试 | 第36页 |
| 2.7.2 膜层粗糙度测试 | 第36-37页 |
| 2.7.3 膜层浸润性测试 | 第37页 |
| 2.7.4 膜层表面形貌及截面组织观察 | 第37页 |
| 2.7.5 膜层相组成及表面成分分析 | 第37页 |
| 2.8 膜层耐蚀性能评价 | 第37-40页 |
| 2.8.1 电化学测试 | 第37-38页 |
| 2.8.2 浸泡实验 | 第38页 |
| 2.8.3 中性盐雾实验 | 第38-40页 |
| 第3章 铝合金微弧氧化膜表面原位生长LDH的研究 | 第40-72页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 微弧氧化膜表面LDH的生长行为 | 第40-54页 |
| 3.2.1 微弧氧化膜表面NiAl-LDH的微观组织结构 | 第40-43页 |
| 3.2.2 微弧氧化膜表面NiAl-LDH的生长机制 | 第43-49页 |
| 3.2.3 溶液组成对LDH生长的影响 | 第49-54页 |
| 3.3 原位生长LDH对微弧氧化膜耐蚀性能的影响 | 第54-70页 |
| 3.3.1 原位生长LDH对微弧氧化膜致密性的影响 | 第54-57页 |
| 3.3.2 原位生长LDH对微弧氧化膜长期耐蚀性能的影响 | 第57-70页 |
| 3.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第4章 铝合金微弧氧化膜硅烷化处理的研究 | 第72-108页 |
| 4.1 引言 | 第72页 |
| 4.2 硅烷化处理对微弧氧化膜微观结构的影响 | 第72-80页 |
| 4.3 硅烷种类对微弧氧化膜硅烷化处理的影响 | 第80-86页 |
| 4.4 硅烷化处理前后微弧氧化膜的长期腐蚀行为 | 第86-106页 |
| 4.4.1 微弧氧化膜的长期腐蚀行为 | 第87-91页 |
| 4.4.2 微弧氧化/硅烷化复合膜层的长期腐蚀行为 | 第91-99页 |
| 4.4.3 硅烷种类对微弧氧化/硅烷化复合膜长期腐蚀行为的影响 | 第99-106页 |
| 4.5 本章小结 | 第106-108页 |
| 第5章 羟基化预处理对微弧氧化铝合金硅烷化处理的影响 | 第108-128页 |
| 5.1 引言 | 第108页 |
| 5.2 羟基化预处理对微弧氧化膜及耐蚀性能的影响 | 第108-112页 |
| 5.2.1 羟基化预处理对微弧氧化膜性能的影响 | 第108-110页 |
| 5.2.2 羟基化预处理对微弧氧化/硅烷化复合膜层耐蚀性能的影响 | 第110-112页 |
| 5.3 羟基化预处理对微弧氧化膜硅烷化处理的影响机制 | 第112-118页 |
| 5.4 羟基化预处理对微弧氧化膜长期耐蚀性能的影响 | 第118-122页 |
| 5.5 羟基化预处理对微弧氧化/硅烷化复合膜层长期耐蚀性能的影响 | 第122-126页 |
| 5.6 本章小结 | 第126-128页 |
| 第6章 铝合金微弧氧化膜电化学辅助硅烷化的研究 | 第128-150页 |
| 6.1 引言 | 第128页 |
| 6.2 微弧氧化膜电化学辅助硅烷化的影响 | 第128-134页 |
| 6.3 微弧氧化膜电化学辅助硅烷化机制 | 第134-138页 |
| 6.4 微弧氧化/硅烷化复合膜层长期腐蚀行为 | 第138-149页 |
| 6.5 本章小结 | 第149-150页 |
| 结论 | 第150-152页 |
| 参考文献 | 第152-168页 |
| 攻读博士期间发表的论文和取得的科研成果 | 第168-170页 |
| 致谢 | 第170页 |
