| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 引言 | 第12-14页 |
| 1.1.1 研究背景及意义 | 第12页 |
| 1.1.2 TiO_2的基本特性 | 第12-14页 |
| 1.2 TiO_2:Nb薄膜的特点 | 第14-15页 |
| 1.3 TiO_2:Nb薄膜的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 TiO_2:Nb薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| 1.4.1 磁控溅射法 | 第17-18页 |
| 1.4.2 溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| 1.4.3 脉冲激光沉积技术 | 第19页 |
| 1.4.4 化学气相沉积 | 第19-20页 |
| 1.5 本论文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 锐钛矿相和金红石相TiO_2:Nb的理论计算 | 第21-30页 |
| 2.1 计算理论基础 | 第21-22页 |
| 2.1.1 第一性原理 | 第21页 |
| 2.1.2 交换-关联泛函近似 | 第21-22页 |
| 2.1.3 赝势方法 | 第22页 |
| 2.2 Materials Studio计算软件 | 第22-23页 |
| 2.3 模型计算和结果分析 | 第23-28页 |
| 2.3.1 结构模型搭建 | 第23-24页 |
| 2.3.2 结果分析 | 第24-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 Nb掺杂TiO_2薄膜制备及性能表征 | 第30-39页 |
| 3.1 射频磁控溅射 | 第30页 |
| 3.2 Nb掺杂TiO_2薄膜制备 | 第30-33页 |
| 3.2.1 射频磁控溅射设备 | 第30-31页 |
| 3.2.2 实验前期准备 | 第31-32页 |
| 3.2.3 薄膜制备步骤 | 第32-33页 |
| 3.3 Nb掺杂TiO_2薄膜性能表征 | 第33-38页 |
| 3.3.1 薄膜晶体结构测试(XRD) | 第33-34页 |
| 3.3.2 薄膜透过率测试 | 第34-35页 |
| 3.3.3 薄膜电阻率测试 | 第35-37页 |
| 3.3.4 薄膜霍尔效应测试 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 不同反应气体下Nb掺杂TiO_2薄膜性能研究 | 第39-57页 |
| 4.1 影响实验的工艺参数 | 第39-40页 |
| 4.1.1 工艺参数对薄膜的影响 | 第39-40页 |
| 4.1.2 主要工艺参数的确定 | 第40页 |
| 4.2 H_2气氛下溅射Nb掺杂TiO_2薄膜 | 第40-49页 |
| 4.2.1 工艺参数设置 | 第40-41页 |
| 4.2.2 H_2气氛下TiO_2:Nb薄膜晶相分析 | 第41-47页 |
| 4.2.3 H_2气氛下Nb掺杂TiO_2薄膜的特性分析 | 第47-49页 |
| 4.3 O_2气氛下溅射Nb掺杂TiO_2薄膜 | 第49-56页 |
| 4.3.1 工艺参数设置 | 第49-51页 |
| 4.3.2 O_2气氛下Nb掺杂TiO_2薄膜的晶相分析 | 第51-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 双层膜结构的Nb掺杂TiO_2薄膜 | 第57-65页 |
| 5.1 H_2和O_2气氛下得Nb掺杂TiO_2薄膜 | 第57页 |
| 5.2 双层Nb掺杂TiO_2薄膜工艺参数 | 第57-58页 |
| 5.3 双层Nb掺杂TiO_2薄膜性能分析 | 第58-64页 |
| 5.3.1 双层Nb掺杂TiO_2薄膜电阻率 | 第58-60页 |
| 5.3.2 双层Nb掺杂TiO_2薄膜载流子浓度 | 第60-61页 |
| 5.3.3 双层Nb掺杂TiO_2薄膜霍尔迁移率 | 第61-62页 |
| 5.3.4 双层Nb掺杂TiO_2薄膜的透过率 | 第62-64页 |
| 5.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士期间发表（含录用）的学术论文 | 第72页 |
