基于电流体直写掩膜的晶体管制备与表征

摘要	第4-5页
Abstract	第5-6页
1. 绪论	第9-20页
1.1 课题来源	第9页
1.2 课题的背景和意义	第9-11页
1.3 国内外研究进展	第11-18页
1.4 本课题主要工作	第18-20页
2. 基于电流体直写工艺的纤维制备	第20-34页
2.1 电流体直写工艺原理	第20-22页
2.2 电流体直写过程和实验平台	第22-25页
2.3 大面积微纳纤维图案直写	第25-29页
2.4 工艺参数对纤维宽度的影响	第29-33页
2.5 本章小结	第33-34页
3. 基于电流体直写纤维的沟道制备	第34-42页
3.1 基于电流体工艺的沟道制备原理	第34-36页
3.2 沟道制备及实验设备	第36-40页
3.3 沟道长度与纤维宽度对应关系	第40-41页
3.4 本章小结	第41-42页
4. 基于电流体直写工艺的晶体管制备	第42-65页
4.1 OTFT发展历程及工作原理	第42-45页
4.2 OTFT制备及性能表征	第45-52页
4.3 OTFT性能优化	第52-64页
4.4 本章小结	第64-65页
5. 总结与展望	第65-67页
5.1 全文总结	第65页
5.2 研究展望	第65-67页
致谢	第67-68页
参考文献	第68-73页
附录 作者攻读硕士学位期间取得的成果	第73页