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半花菁荧光染料稳定性及构效关系研究

中文摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-19页
    1.1 半花菁荧光染料第9-14页
        1.1.1 荧光产生机理第9-10页
        1.1.2 花菁荧光染料结构与性能特征第10-12页
        1.1.3 花菁染料光稳定性研究进展第12-14页
    1.2 量子化学计算方法第14-15页
        1.2.1 量子化学方法第14页
        1.2.2 分子轨道理论第14页
        1.2.3 计算方法简介第14-15页
    1.3 分形概述第15-17页
        1.3.1 分形与分形维数第15-16页
        1.3.2 分形维数的计算第16页
        1.3.3 分形的发展与应用第16-17页
    1.4 课题研究内容与意义第17-19页
        1.4.1 研究内容第17-18页
        1.4.2 研究的创新点及意义第18-19页
第二章 染色实验和染料光稳定性测试第19-43页
    2.1 DHEASPBr-C2 与X-10GFF在腈纶上的染色第19-20页
        2.1.1 实验材料、药品及仪器第19-20页
        2.1.2 实验方法第20页
    2.2 DHEASPBr-C2 与X-10GFF光稳定性研究第20-22页
        2.2.1 实验材料及仪器第20-21页
        2.2.2 实验方法第21-22页
    2.3 结果与讨论第22-42页
        2.3.1 DHEASPBr-C2 与商品荧光染料X-10GFF染色性能的比较第22-28页
        2.3.2 DHEASPBr-C2 与商品荧光染料X-10GFF光稳定性分析第28-42页
    2.4 本章小结第42-43页
第三章DHEASPBr-C2 与X-10GFF的量子化学研究第43-92页
    3.1 从头算方法对两种染料的研究第43-52页
        3.1.1 从头算方法对半花菁荧光染料DHEASPBr-C2 的研究第43-48页
        3.1.2 从头算方法对商品荧光染料X-10GFF的研究第48-52页
    3.2 密度泛函理论方法对两种染料的研究第52-62页
        3.2.1 密度泛函理论方法对染料DHEASPBr-C2 的研究第52-57页
        3.2.2 密度泛函理论方法对商品荧光染料X-10GFF的研究第57-62页
    3.3 二级微扰理论方法对半花菁荧光染料DHEASPBr-C2 的研究第62-66页
    3.4 取代基对DHEASPBr-C2 结构和性能的影响第66-91页
        3.4.1 吸电子基对DHEASPBr-C2 的影响第67-78页
        3.4.2 供电子基对DHEASPBr-C2 的影响第78-91页
    3.5 本章小结第91-92页
第四章 DHEASPBr-C2 的分形研究第92-101页
    4.1 分形几何与岩石断裂第92-93页
        4.1.1 分形几何第92页
        4.1.2 岩石微观断裂的分形模型第92-93页
        4.1.3 分形匹配原理与brachistofractality原理第93页
    4.2 DHEASPBr-C2 分子微观断裂分形维数第93-100页
        4.2.1 DHEASPBr-C2 分子分形维数第93-94页
        4.2.2 DHEASPBr-C2 断裂分子分形维数第94-100页
    4.3 本章小结第100-101页
第五章 总结与展望第101-104页
    5.1 结论第101-102页
    5.2 展望第102-104页
参考文献第104-110页
攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文第110-111页
致谢第111-112页

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