中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 半花菁荧光染料 | 第9-14页 |
1.1.1 荧光产生机理 | 第9-10页 |
1.1.2 花菁荧光染料结构与性能特征 | 第10-12页 |
1.1.3 花菁染料光稳定性研究进展 | 第12-14页 |
1.2 量子化学计算方法 | 第14-15页 |
1.2.1 量子化学方法 | 第14页 |
1.2.2 分子轨道理论 | 第14页 |
1.2.3 计算方法简介 | 第14-15页 |
1.3 分形概述 | 第15-17页 |
1.3.1 分形与分形维数 | 第15-16页 |
1.3.2 分形维数的计算 | 第16页 |
1.3.3 分形的发展与应用 | 第16-17页 |
1.4 课题研究内容与意义 | 第17-19页 |
1.4.1 研究内容 | 第17-18页 |
1.4.2 研究的创新点及意义 | 第18-19页 |
第二章 染色实验和染料光稳定性测试 | 第19-43页 |
2.1 DHEASPBr-C2 与X-10GFF在腈纶上的染色 | 第19-20页 |
2.1.1 实验材料、药品及仪器 | 第19-20页 |
2.1.2 实验方法 | 第20页 |
2.2 DHEASPBr-C2 与X-10GFF光稳定性研究 | 第20-22页 |
2.2.1 实验材料及仪器 | 第20-21页 |
2.2.2 实验方法 | 第21-22页 |
2.3 结果与讨论 | 第22-42页 |
2.3.1 DHEASPBr-C2 与商品荧光染料X-10GFF染色性能的比较 | 第22-28页 |
2.3.2 DHEASPBr-C2 与商品荧光染料X-10GFF光稳定性分析 | 第28-42页 |
2.4 本章小结 | 第42-43页 |
第三章DHEASPBr-C2 与X-10GFF的量子化学研究 | 第43-92页 |
3.1 从头算方法对两种染料的研究 | 第43-52页 |
3.1.1 从头算方法对半花菁荧光染料DHEASPBr-C2 的研究 | 第43-48页 |
3.1.2 从头算方法对商品荧光染料X-10GFF的研究 | 第48-52页 |
3.2 密度泛函理论方法对两种染料的研究 | 第52-62页 |
3.2.1 密度泛函理论方法对染料DHEASPBr-C2 的研究 | 第52-57页 |
3.2.2 密度泛函理论方法对商品荧光染料X-10GFF的研究 | 第57-62页 |
3.3 二级微扰理论方法对半花菁荧光染料DHEASPBr-C2 的研究 | 第62-66页 |
3.4 取代基对DHEASPBr-C2 结构和性能的影响 | 第66-91页 |
3.4.1 吸电子基对DHEASPBr-C2 的影响 | 第67-78页 |
3.4.2 供电子基对DHEASPBr-C2 的影响 | 第78-91页 |
3.5 本章小结 | 第91-92页 |
第四章 DHEASPBr-C2 的分形研究 | 第92-101页 |
4.1 分形几何与岩石断裂 | 第92-93页 |
4.1.1 分形几何 | 第92页 |
4.1.2 岩石微观断裂的分形模型 | 第92-93页 |
4.1.3 分形匹配原理与brachistofractality原理 | 第93页 |
4.2 DHEASPBr-C2 分子微观断裂分形维数 | 第93-100页 |
4.2.1 DHEASPBr-C2 分子分形维数 | 第93-94页 |
4.2.2 DHEASPBr-C2 断裂分子分形维数 | 第94-100页 |
4.3 本章小结 | 第100-101页 |
第五章 总结与展望 | 第101-104页 |
5.1 结论 | 第101-102页 |
5.2 展望 | 第102-104页 |
参考文献 | 第104-110页 |
攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第110-111页 |
致谢 | 第111-112页 |