| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·半导体纳米晶的制备方法 | 第11-16页 |
| ·合成方法简介 | 第11-13页 |
| ·胶体法合成纳米晶的现状 | 第13-16页 |
| ·纳米半导体材料的光致发光 | 第16-18页 |
| ·半导体纳米材料的光致化学 | 第18-20页 |
| ·自清洁涂膜材料 | 第20-27页 |
| ·基于憎水特性的自清洁涂膜 | 第20-22页 |
| ·仿生自清洁涂膜 | 第22-23页 |
| ·超亲水特性的自清洁涂膜 | 第23-27页 |
| ·立题的意义和主要研究内容 | 第27-29页 |
| ·立题的意义 | 第27-28页 |
| ·主要研究内容 | 第28-29页 |
| 第二章 实验用原料、仪器设备及测试表征方法 | 第29-34页 |
| ·实验用原料 | 第29-30页 |
| ·CdTe 纳米晶的水相合成及强可见光照下化学腐蚀所需原料及试剂 | 第29页 |
| ·自清洁涂膜的制备所需原料及试剂 | 第29-30页 |
| ·实验用仪器与设备 | 第30页 |
| ·实验测试与表征方法 | 第30-33页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第30-31页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第31页 |
| ·荧光光谱仪 | 第31页 |
| ·颗粒粒度的测量 | 第31-32页 |
| ·红外分析 | 第32页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第32页 |
| ·热重差热分析 | 第32页 |
| ·接触角测试 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第三章 CdTe 纳米晶的水相合成及强可见光照下化学腐蚀行为研究 | 第34-42页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验 | 第34-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-41页 |
| ·水相CdTe 纳米晶XRD 分析 | 第35-36页 |
| ·紫外可见吸收光谱分析 | 第36-37页 |
| ·荧光发射光谱分析 | 第37-40页 |
| ·光致化学腐蚀行为研究 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第四章 涂膜所用TiO_2分散液以及粘结剂的制备 | 第42-50页 |
| ·TiO_2分散液的制备 | 第42-45页 |
| ·实验步骤 | 第42页 |
| ·纳米TiO_2晶体结构表征 | 第42-43页 |
| ·粒度表征 | 第43-44页 |
| ·二氧化钛水性分散体的分散稳定性 | 第44-45页 |
| ·二氧化钛分散体固含量的测定 | 第45页 |
| ·涂膜用粘结剂的制备 | 第45-48页 |
| ·硅烷水解理论基础 | 第45-46页 |
| ·实验步骤 | 第46页 |
| ·产物电导率测试 | 第46-47页 |
| ·红外对硅烷水解分析 | 第47-48页 |
| ·粘结剂的固含量 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第五章 一种结构与表面成分可控的自清洁膜的制备与性能研究 | 第50-65页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·实验过程 | 第50-51页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第50-51页 |
| ·涂料的制备 | 第51页 |
| ·膜的制备 | 第51页 |
| ·性能表征 | 第51-63页 |
| ·粘结剂用量对涂料机械性能的影响 | 第51-52页 |
| ·二氧化钛与PTFE 含量对涂膜各类性能的影响 | 第52-63页 |
| ·防污测试 | 第63-64页 |
| ·炭黑分散液污染实验 | 第63-64页 |
| ·暴晒实验 | 第64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 结论与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-73页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 附件 | 第75页 |
