摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-29页 |
·引言 | 第10-11页 |
·半导体纳米晶的制备方法 | 第11-16页 |
·合成方法简介 | 第11-13页 |
·胶体法合成纳米晶的现状 | 第13-16页 |
·纳米半导体材料的光致发光 | 第16-18页 |
·半导体纳米材料的光致化学 | 第18-20页 |
·自清洁涂膜材料 | 第20-27页 |
·基于憎水特性的自清洁涂膜 | 第20-22页 |
·仿生自清洁涂膜 | 第22-23页 |
·超亲水特性的自清洁涂膜 | 第23-27页 |
·立题的意义和主要研究内容 | 第27-29页 |
·立题的意义 | 第27-28页 |
·主要研究内容 | 第28-29页 |
第二章 实验用原料、仪器设备及测试表征方法 | 第29-34页 |
·实验用原料 | 第29-30页 |
·CdTe 纳米晶的水相合成及强可见光照下化学腐蚀所需原料及试剂 | 第29页 |
·自清洁涂膜的制备所需原料及试剂 | 第29-30页 |
·实验用仪器与设备 | 第30页 |
·实验测试与表征方法 | 第30-33页 |
·X 射线衍射分析(XRD) | 第30-31页 |
·紫外可见分光光度计 | 第31页 |
·荧光光谱仪 | 第31页 |
·颗粒粒度的测量 | 第31-32页 |
·红外分析 | 第32页 |
·扫描电子显微镜 | 第32页 |
·热重差热分析 | 第32页 |
·接触角测试 | 第32-33页 |
·小结 | 第33-34页 |
第三章 CdTe 纳米晶的水相合成及强可见光照下化学腐蚀行为研究 | 第34-42页 |
·引言 | 第34页 |
·实验 | 第34-35页 |
·结果与讨论 | 第35-41页 |
·水相CdTe 纳米晶XRD 分析 | 第35-36页 |
·紫外可见吸收光谱分析 | 第36-37页 |
·荧光发射光谱分析 | 第37-40页 |
·光致化学腐蚀行为研究 | 第40-41页 |
·小结 | 第41-42页 |
第四章 涂膜所用TiO_2分散液以及粘结剂的制备 | 第42-50页 |
·TiO_2分散液的制备 | 第42-45页 |
·实验步骤 | 第42页 |
·纳米TiO_2晶体结构表征 | 第42-43页 |
·粒度表征 | 第43-44页 |
·二氧化钛水性分散体的分散稳定性 | 第44-45页 |
·二氧化钛分散体固含量的测定 | 第45页 |
·涂膜用粘结剂的制备 | 第45-48页 |
·硅烷水解理论基础 | 第45-46页 |
·实验步骤 | 第46页 |
·产物电导率测试 | 第46-47页 |
·红外对硅烷水解分析 | 第47-48页 |
·粘结剂的固含量 | 第48页 |
·小结 | 第48-50页 |
第五章 一种结构与表面成分可控的自清洁膜的制备与性能研究 | 第50-65页 |
·引言 | 第50页 |
·实验过程 | 第50-51页 |
·玻璃基片的清洗 | 第50-51页 |
·涂料的制备 | 第51页 |
·膜的制备 | 第51页 |
·性能表征 | 第51-63页 |
·粘结剂用量对涂料机械性能的影响 | 第51-52页 |
·二氧化钛与PTFE 含量对涂膜各类性能的影响 | 第52-63页 |
·防污测试 | 第63-64页 |
·炭黑分散液污染实验 | 第63-64页 |
·暴晒实验 | 第64页 |
·小结 | 第64-65页 |
结论与展望 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-73页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第73-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
附件 | 第75页 |