| 中文摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3页 |
| 第1章 绪论 | 第6-12页 |
| 1.1 前言 | 第6页 |
| 1.2 碳化硼陶瓷简介 | 第6-8页 |
| 1.2.1 碳化硼的组成与结构 | 第6-7页 |
| 1.2.2 碳化硼陶瓷的性能与应用 | 第7-8页 |
| 1.3 碳化硼陶瓷的烧结工艺 | 第8-9页 |
| 1.3.1 常压烧结 | 第8-9页 |
| 1.3.2 热压烧结 | 第9页 |
| 1.3.3 热等静压烧结 | 第9页 |
| 1.3.4 放电等离子烧结（SPS） | 第9页 |
| 1.4 碳化硼陶瓷常压烧结的研究进展 | 第9-11页 |
| 1.5 本课题的研究意义 | 第11-12页 |
| 第2章 实验设置与实验方案 | 第12-19页 |
| 2.1 实验原料及实验仪器设备 | 第12-13页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第12页 |
| 2.1.2 实验仪器设备 | 第12-13页 |
| 2.2 碳化硼陶瓷样品的制备 | 第13-16页 |
| 2.2.1 工艺流程 | 第13-14页 |
| 2.2.2 烧结 | 第14-16页 |
| 2.3 测试与表征 | 第16-19页 |
| 2.3.1 体积密度和相对密度的测定 | 第16页 |
| 2.3.2 维氏硬度的测定 | 第16-17页 |
| 2.3.3 物相分析（XRD） | 第17-18页 |
| 2.3.4 扫描电镜（SEM）观察 | 第18-19页 |
| 第3章 添加葡萄糖助剂碳化硼在不同温度下的烧结研究 | 第19-26页 |
| 3.1 引言 | 第19页 |
| 3.2 实验及其结果分析 | 第19-24页 |
| 3.2.1 B_4C样品的密度和硬度分析 | 第19-20页 |
| 3.2.2 B_4C样品的SEM分析 | 第20-22页 |
| 3.2.3 B_4C样品的XRD分析 | 第22-24页 |
| 3.3 本章小结 | 第24-26页 |
| 第4章 添加活性炭助剂碳化硼在不同温度下的烧结研究 | 第26-32页 |
| 4.1 引言 | 第26页 |
| 4.2 实验及其结果分析 | 第26-31页 |
| 4.2.1 B_4C样品的密度和硬度 | 第27-28页 |
| 4.2.2 B_4C样品的SEM分析 | 第28-29页 |
| 4.2.3 B_4C样品的XRD分析 | 第29-31页 |
| 4.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第5章 添加石墨助剂碳化硼在不同温度下的烧结研究 | 第32-38页 |
| 5.1 引言 | 第32页 |
| 5.2 实验及其结果分析 | 第32-37页 |
| 5.2.1 B_4C样品的密度和硬度 | 第33-34页 |
| 5.2.2 B_4C样品的SEM分析 | 第34-35页 |
| 5.2.3 B_4C样品的XRD分析 | 第35-37页 |
| 5.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第6章 三种不同烧结助剂烧结情况的比较分析 | 第38-48页 |
| 6.1 2100℃时不同烧结助剂情况的分析比较 | 第38-41页 |
| 6.1.1 密度与硬度的比较分析 | 第38-39页 |
| 6.1.2 表面形貌的比较分析 | 第39-40页 |
| 6.1.3 晶体结构的比较分析 | 第40-41页 |
| 6.2 2200℃时不同烧结助剂情况的分析比较 | 第41-44页 |
| 6.2.1 密度与硬度的比较分析 | 第41-42页 |
| 6.2.2 表面形貌的比较分析 | 第42-43页 |
| 6.2.3 晶体结构的比较分析 | 第43-44页 |
| 6.3 2250℃时不同烧结助剂情况的分析比较 | 第44-47页 |
| 6.3.1 密度与硬度的比较分析 | 第44-45页 |
| 6.3.2 表面形貌的比较分析 | 第45-46页 |
| 6.3.3 晶体结构的比较分析 | 第46-47页 |
| 6.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第7章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 7.1 总结 | 第48-49页 |
| 7.2 展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-58页 |