| 摘要 | 第2-3页 |
| ABSTRACT | 第3-4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-28页 |
| 1.1 引言 | 第7-8页 |
| 1.2 电催化水氧化体系的研究 | 第8-11页 |
| 1.2.1 钴基催化剂的研究进展 | 第8-9页 |
| 1.2.2 水氧化催化剂的机理研究 | 第9-11页 |
| 1.3 光催化水氧化体系的研究 | 第11-13页 |
| 1.3.1 光驱动半导体催化水氧化 | 第11-13页 |
| 1.3.2 光驱动染料敏化水氧化 | 第13页 |
| 1.4 分子水平水氧化催化剂 | 第13-26页 |
| 1.4.1 有机钌配合物水氧化催化剂 | 第13-17页 |
| 1.4.2 杂多酸钴水氧化催化剂 | 第17-22页 |
| 1.4.3 氧化钴水氧化催化剂 | 第22-25页 |
| 1.4.4 钴配合物水氧化催化剂 | 第25-26页 |
| 1.5 选题背景及意义 | 第26-28页 |
| 第二章 Co-ZIF-67 合成及光催化水氧化性能的研究 | 第28-49页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-33页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第28-29页 |
| 2.2.2 Co-ZIF-67 的合成 | 第29-30页 |
| 2.2.3 光敏剂的合成 | 第30页 |
| 2.2.4 光驱动水氧化反应 | 第30-31页 |
| 2.2.5 光谱测量 | 第31页 |
| 2.2.6 Co-ZIF-67/FTO电极的制备 | 第31-32页 |
| 2.2.7 循环伏安曲线（CV）测试 | 第32页 |
| 2.2.8 回收催化剂 | 第32-33页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第33-47页 |
| 2.3.1 Co-ZIF-67 的合成和表征 | 第33-34页 |
| 2.3.2 催化水氧化性能研究 | 第34-35页 |
| 2.3.3 pH、缓冲体系、S_2O_8~(2-)的浓度、光敏剂类型对光催化水氧化反应的影响 | 第35-38页 |
| 2.3.4 初始量子效率计算 | 第38-42页 |
| 2.3.5 催化剂稳定性研究 | 第42-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第三章 Co-ZIF-67 电催化水氧化稳定性及机理的研究 | 第49-56页 |
| 3.1 引言 | 第49-50页 |
| 3.2 实验部分 | 第50-51页 |
| 3.2.1 仪器 | 第50页 |
| 3.2.2 Co-ZIF-67/FTO电极的制备 | 第50页 |
| 3.2.3 线性循环伏安曲线（LSV） | 第50页 |
| 3.2.4 固体颗粒表征 | 第50-51页 |
| 3.2.5 理论计算 | 第51页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第51-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 Co-PMIDA的合成及催化水氧化性能的研究 | 第56-69页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 实验部分 | 第57-61页 |
| 4.2.1 试剂与仪器 | 第57页 |
| 4.2.2 (H_3O)_6 [Co_4(H_2O)_4(HPMIDA)_2(PMIDA)_2] 2H_2O的合成 | 第57-58页 |
| 4.2.3 光驱动水氧化反应 | 第58页 |
| 4.2.4 光谱测量 | 第58-59页 |
| 4.2.5 循环伏安曲线（CV）测试 | 第59页 |
| 4.2.6 催化剂的表征 | 第59页 |
| 4.2.7 电催化合成CoO_x | 第59页 |
| 4.2.8 THpNO_3的合成 | 第59页 |
| 4.2.9 Bi膜修饰的玻碳电极的制备 | 第59-60页 |
| 4.2.10 阴极溶出伏安法测溶液中Co~(2+)的含量 | 第60-61页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第61-68页 |
| 4.3.1 催化剂1的表征 | 第61页 |
| 4.3.2 催化水氧化性能研究 | 第61-62页 |
| 4.3.3 循环伏安测试 | 第62-63页 |
| 4.3.4 活性物种排查 | 第63-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 结论和展望 | 第69-71页 |
| 5.1 结论 | 第69-70页 |
| 5.2 展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 研究生工作期间发表的论文和申请专利情况 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
