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基于28nm工艺低电压SRAM单元电路设计

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-19页
    1.1 研究背景第9-17页
        1.1.1 存储器研究的必要性第9-11页
        1.1.2 存储器的分类第11-13页
        1.1.3 先进工艺下SRAM第13-17页
    1.2 研究内容与创新点第17页
    1.3 论文结构第17-19页
第二章 SRAM单元电路研究现状第19-42页
    2.1 传统6T SRAM单元第19-29页
        2.1.1 传统6T单元工作原理第20-22页
        2.1.2 SRAM单元稳定性衡量第22-25页
        2.1.3 6T存储单元稳定性面临的挑战第25-29页
    2.2 单元稳定性优化技术第29-41页
        2.2.1 新型单元结构优化技术第30-32页
        2.2.2 辅助电路优化技术第32-41页
    2.3 本章小结第41-42页
第三章 新型SRAM单元设计第42-54页
    3.1 新型10T SRAM单元电路设计第42-45页
    3.2 新型10T SRAM单元读写策略第45-53页
        3.2.1 新型10T SRAM单元读链路第46-51页
        3.2.2 新型10T SRAM单元写链路第51-53页
    3.3 本章小结第53-54页
第四章 新型10T SRAM单元性能分析和仿真结果第54-71页
    4.1 SRAM单元稳定性分析——静态噪声容限分析第54-60页
        4.1.1 保持静态噪声容限第56-57页
        4.1.2 读静态噪声容限第57-58页
        4.1.3 写能力第58-60页
    4.2 单元抗工艺变化分析第60-63页
    4.3 单元失效分析第63-65页
    4.4 单元最小工作电压第65-66页
    4.5 单元操作速度第66-68页
    4.6 单元泄漏电流及静态功耗第68-70页
    4.7 本章小结第70-71页
第五章 总结及展望第71-74页
    5.1 论文总结第71-72页
    5.2 未来工作展望第72-74页
参考文献第74-80页
致谢第80-81页
攻读学位期间取得的学术成果第81页

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