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极间距对铜电解物理场及始极片形变影响研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-23页
    1.1 国内外炼铜工艺发展现状第11-16页
        1.1.1 炼铜工艺的发展简介第11-12页
        1.1.2 铜电解精炼技术发展现状第12-14页
        1.1.3 极间距的研究现状第14-15页
        1.1.4 电解物理场仿真研究现状第15-16页
    1.2 铜电解精炼反应原理及工艺流程第16-18页
        1.2.1 铜电解精炼反应原理第16-17页
        1.2.2 铜电解精炼工艺流程第17-18页
    1.3 铜电解精炼过程工艺要素分析第18-20页
    1.4 课题的研究内容及意义第20-23页
第二章 铜电解物理场的相关理论及参数计算第23-41页
    2.1 流体流动基本方程第23-26页
    2.2 磁流体模型分析第26-29页
    2.3 流体数值的计算方法第29-31页
        2.3.1 有限差分法第29-30页
        2.3.2 有限元法第30页
        2.3.3 有限体积法第30-31页
    2.4 铜电解物理场参数计算第31-35页
        2.4.1 铜电解车间的电路连接第31-32页
        2.4.2 直流电耗的计算第32-33页
        2.4.3 槽电压的确定第33-34页
        2.4.4 电解液流速的确定和流场模型的选择第34-35页
    2.5 铜始极片厚度及力学性能测定第35-40页
        2.5.1 铜始极片厚度的测定第35-37页
        2.5.2 铜始极片力学性能的测定第37-40页
    2.6 本章小结第40-41页
第三章 铜电解仿真模型的建立第41-57页
    3.1 铜电解几何模型的建立与简化第41-48页
        3.1.1 铜电解几何模型的基本参数第41-42页
        3.1.2 铜电解几何模型的建立第42-43页
        3.1.3 铜电解几何模型的简化第43-46页
        3.1.4 铜电解几何模型的网格剖分第46-47页
        3.1.5 材料定义第47-48页
    3.2 物理场数学模型的建立第48-55页
        3.2.1 流场数学模型第48-51页
        3.2.2 磁场数学模型第51-53页
        3.2.3 力学场第53页
        3.2.4 电场数学模型第53-54页
        3.2.5 温度场数学模型第54-55页
        3.2.6 求解器设置第55页
    3.3 本章小结第55-57页
第四章 铜电解多物理场模拟分析第57-91页
    4.1 模拟方案的制定第57页
    4.2 不同极间距对电场影响分析第57-65页
        4.2.1 不同极间距对电势分布的影响第57-60页
        4.2.2 不同极间距对电流密度分布的影响第60-65页
    4.3 不同极间距对流场影响分析第65-75页
        4.3.1 不同极间距对流速的影响第65-71页
        4.3.2 不同极间距对流场分布的影响第71-75页
    4.4 不同极间距对铜始极片变形的影响分析第75-78页
    4.5 槽面数据统计与分析第78-81页
        4.5.1 槽面数据统计第78-79页
        4.5.2 统计结果分析第79-81页
    4.6 极间距优化分析第81-89页
        4.6.1 分析方法的选取第81-82页
        4.6.2 回归模型的选定第82-83页
        4.6.3 优化分析第83-87页
        4.6.4 合理极间距结果分析第87-89页
    4.7 本章小结第89-91页
第五章 结论与展望第91-93页
    5.1 结论第91页
    5.2 展望第91-93页
致谢第93-95页
参考文献第95-99页
附录A 攻读硕士期间发表学术成果第99-101页
附录B 槽面实验记录结果第101-104页

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