极间距对铜电解物理场及始极片形变影响研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 国内外炼铜工艺发展现状 | 第11-16页 |
1.1.1 炼铜工艺的发展简介 | 第11-12页 |
1.1.2 铜电解精炼技术发展现状 | 第12-14页 |
1.1.3 极间距的研究现状 | 第14-15页 |
1.1.4 电解物理场仿真研究现状 | 第15-16页 |
1.2 铜电解精炼反应原理及工艺流程 | 第16-18页 |
1.2.1 铜电解精炼反应原理 | 第16-17页 |
1.2.2 铜电解精炼工艺流程 | 第17-18页 |
1.3 铜电解精炼过程工艺要素分析 | 第18-20页 |
1.4 课题的研究内容及意义 | 第20-23页 |
第二章 铜电解物理场的相关理论及参数计算 | 第23-41页 |
2.1 流体流动基本方程 | 第23-26页 |
2.2 磁流体模型分析 | 第26-29页 |
2.3 流体数值的计算方法 | 第29-31页 |
2.3.1 有限差分法 | 第29-30页 |
2.3.2 有限元法 | 第30页 |
2.3.3 有限体积法 | 第30-31页 |
2.4 铜电解物理场参数计算 | 第31-35页 |
2.4.1 铜电解车间的电路连接 | 第31-32页 |
2.4.2 直流电耗的计算 | 第32-33页 |
2.4.3 槽电压的确定 | 第33-34页 |
2.4.4 电解液流速的确定和流场模型的选择 | 第34-35页 |
2.5 铜始极片厚度及力学性能测定 | 第35-40页 |
2.5.1 铜始极片厚度的测定 | 第35-37页 |
2.5.2 铜始极片力学性能的测定 | 第37-40页 |
2.6 本章小结 | 第40-41页 |
第三章 铜电解仿真模型的建立 | 第41-57页 |
3.1 铜电解几何模型的建立与简化 | 第41-48页 |
3.1.1 铜电解几何模型的基本参数 | 第41-42页 |
3.1.2 铜电解几何模型的建立 | 第42-43页 |
3.1.3 铜电解几何模型的简化 | 第43-46页 |
3.1.4 铜电解几何模型的网格剖分 | 第46-47页 |
3.1.5 材料定义 | 第47-48页 |
3.2 物理场数学模型的建立 | 第48-55页 |
3.2.1 流场数学模型 | 第48-51页 |
3.2.2 磁场数学模型 | 第51-53页 |
3.2.3 力学场 | 第53页 |
3.2.4 电场数学模型 | 第53-54页 |
3.2.5 温度场数学模型 | 第54-55页 |
3.2.6 求解器设置 | 第55页 |
3.3 本章小结 | 第55-57页 |
第四章 铜电解多物理场模拟分析 | 第57-91页 |
4.1 模拟方案的制定 | 第57页 |
4.2 不同极间距对电场影响分析 | 第57-65页 |
4.2.1 不同极间距对电势分布的影响 | 第57-60页 |
4.2.2 不同极间距对电流密度分布的影响 | 第60-65页 |
4.3 不同极间距对流场影响分析 | 第65-75页 |
4.3.1 不同极间距对流速的影响 | 第65-71页 |
4.3.2 不同极间距对流场分布的影响 | 第71-75页 |
4.4 不同极间距对铜始极片变形的影响分析 | 第75-78页 |
4.5 槽面数据统计与分析 | 第78-81页 |
4.5.1 槽面数据统计 | 第78-79页 |
4.5.2 统计结果分析 | 第79-81页 |
4.6 极间距优化分析 | 第81-89页 |
4.6.1 分析方法的选取 | 第81-82页 |
4.6.2 回归模型的选定 | 第82-83页 |
4.6.3 优化分析 | 第83-87页 |
4.6.4 合理极间距结果分析 | 第87-89页 |
4.7 本章小结 | 第89-91页 |
第五章 结论与展望 | 第91-93页 |
5.1 结论 | 第91页 |
5.2 展望 | 第91-93页 |
致谢 | 第93-95页 |
参考文献 | 第95-99页 |
附录A 攻读硕士期间发表学术成果 | 第99-101页 |
附录B 槽面实验记录结果 | 第101-104页 |