Ge-Sb-Se基质光波导剥离法制备工艺研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 光波导器件 | 第11-15页 |
| 1.1.1 集成光波导器件发展 | 第11-13页 |
| 1.1.2 光波导的研究现状和前景 | 第13-15页 |
| 1.2 硫系材料 | 第15-21页 |
| 1.2.1 膜制备方法及光波导研究现状 | 第17-19页 |
| 1.2.2 波导的制备方法及应用 | 第19-21页 |
| 1.3 选题背景及研究意义 | 第21-22页 |
| 1.4 研究内容以及研究思路 | 第22-24页 |
| 2 光波导理论研究 | 第24-33页 |
| 2.1 光波导理论基础 | 第24-27页 |
| 2.1.1 麦克斯韦方程组 | 第24-26页 |
| 2.1.2 赫姆霍兹方程 | 第26-27页 |
| 2.2 阶跃型三层平板波导 | 第27-31页 |
| 2.2.1 平板波导的模式方程 | 第27-29页 |
| 2.2.2 平板波导的模式截止和归一化参量 | 第29-31页 |
| 2.3 条形介质波导 | 第31-33页 |
| 3 硫系波导结构设计 | 第33-39页 |
| 3.1 波导光学性能仿真软件 | 第33页 |
| 3.2 硫系波导的结构设计 | 第33-39页 |
| 3.2.1 TE模式分析 | 第34-36页 |
| 3.2.2 TM模式分析 | 第36-38页 |
| 3.2.3 设计掩模板 | 第38-39页 |
| 4 光波导剥离法研究 | 第39-48页 |
| 4.1 光刻前基片处理 | 第39-40页 |
| 4.2 两种不同光刻胶光波导制备 | 第40-48页 |
| 4.2.1 利用AZ5214光刻胶制备硫系光波导 | 第40-45页 |
| 4.2.2 利用N244光刻胶制备硫系波导 | 第45-48页 |
| 5 硫系薄膜及波导性能测试 | 第48-56页 |
| 5.1 硫系薄膜性能测试分析 | 第48-50页 |
| 5.1.1 硫系薄膜的表面厚度和粗糙度测试 | 第48-49页 |
| 5.1.2 薄膜组分测试 | 第49-50页 |
| 5.1.3 硫系薄膜透过性及折射率分析 | 第50页 |
| 5.2 光波导的形态分析 | 第50-54页 |
| 5.2.1 波导的表面分析 | 第50-52页 |
| 5.2.2 光波导的截面分析 | 第52-54页 |
| 5.3 光波导的传输特性研究 | 第54-56页 |
| 6 总结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 在学研究成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
