| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 有机电致发光器件的发展、应用和产业现状 | 第9-13页 |
| 1.2.1 有机电致发光器件的发展 | 第9-11页 |
| 1.2.2 有机电致发光器件的应用和产业现状 | 第11-13页 |
| 1.3 有机电致发光基本理论 | 第13-17页 |
| 1.3.1 OLED器件的工作原理 | 第13-14页 |
| 1.3.2 OLED器件的基本参数 | 第14-16页 |
| 1.3.3 OLED器件的结构 | 第16-17页 |
| 1.4 OLED器件的阳极界面修饰 | 第17-19页 |
| 1.5 本文的主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 空穴注入层对单层OLED器件性能的影响 | 第20-33页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 实验材料与设备 | 第20-22页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第20-21页 |
| 2.2.2 实验设备及测试仪器 | 第21-22页 |
| 2.3 OLED器件的制备 | 第22-23页 |
| 2.3.1 电极基底（ITO玻璃）的处理 | 第22页 |
| 2.3.2 各功能层的制备 | 第22-23页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第23-32页 |
| 2.4.1 器件发光层的优化 | 第24-26页 |
| 2.4.2 V_2O_5作空穴注入层对器件性能的影响 | 第26-28页 |
| 2.4.3 PEDOT：PSS作空穴注入层对器件性能的影响 | 第28-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 氯化处理ITO阳极对器件性能的影响 | 第33-43页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 器件的设计及制备 | 第34-35页 |
| 3.2.1 器件的设计 | 第34-35页 |
| 3.2.2 器件的制备 | 第35页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第35-42页 |
| 3.3.1 UV处理时间对器件性能的影响 | 第35-39页 |
| 3.3.2 氯化溶剂对器件性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.3 基于Cl-ITO阳极的器件与MoO_3修饰的器件对比讨论 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 MoO_3/C_(60)共混的空穴缓冲层对器件性能的影响 | 第43-52页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 器件的设计与制备 | 第44页 |
| 4.2.1 器件的设计 | 第44页 |
| 4.2.2 器件的制备 | 第44页 |
| 4.3 C_(60)作空穴缓冲层对器件性能的影响 | 第44-46页 |
| 4.4 混合空穴缓冲层对器件性能的影响 | 第46-50页 |
| 4.4.1 MoO_3和C_(60)混合比例对器件性能的影响 | 第46-49页 |
| 4.4.2 空穴缓冲层厚度对器件性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 5.1 全文总结 | 第52-53页 |
| 5.2 展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第59-60页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
