| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-12页 |
| 1.1 聚合物波导折射率传感器的研究意义 | 第9页 |
| 1.2 聚合物波导折射率传感器的分类 | 第9-10页 |
| 1.3 聚合物波导折射率传感器的研究进展 | 第10-11页 |
| 1.4 本论文主要内容 | 第11-12页 |
| 第二章 波导折射率传感器的理论基础与设计方法 | 第12-23页 |
| 2.1 平板波导模式理论 | 第12-18页 |
| 2.2 条形波导模式理论 | 第18-22页 |
| 2.2.1 矩形波导的马卡梯里近似解法 | 第18-21页 |
| 2.2.2 矩形波导的有效折射率法 | 第21-22页 |
| 2.2.3 矩形波导单模传输条件 | 第22页 |
| 2.3 本章总结 | 第22-23页 |
| 第三章 MZI折射率传感器的基本理论和结构设计 | 第23-32页 |
| 3.1 MZI折射率传感器的基本理论 | 第23-26页 |
| 3.1.1 输入输出光强的传递函数 | 第23-24页 |
| 3.1.2 MZI折射率传感器的灵敏度 | 第24-26页 |
| 3.2 MZI折射率传感器的结构设计 | 第26-31页 |
| 3.2.1 MZI折射率传感器的材料选择 | 第26-27页 |
| 3.2.2 MZI折射率传感器的结构尺寸设计 | 第27-31页 |
| 3.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 MZI折射率传感器的制备 | 第32-41页 |
| 4.1 制备工艺流程和设备 | 第32-33页 |
| 4.1.1 MZI折射率传感器的制备工艺流程 | 第32-33页 |
| 4.2 具体实验步骤 | 第33-40页 |
| 4.2.1 MZI折射率传感器的光波导以及传感区图形的掩膜版设计 | 第33页 |
| 4.2.2 基片和掩膜版的清洗 | 第33页 |
| 4.2.3 旋转涂覆芯层 | 第33-34页 |
| 4.2.4 芯层的紫外固化与退火 | 第34页 |
| 4.2.5 真空蒸镀铝掩膜层 | 第34-35页 |
| 4.2.6 光刻 | 第35-36页 |
| 4.2.7 反应离子刻蚀 | 第36-37页 |
| 4.2.8 旋转涂覆上包层 | 第37页 |
| 4.2.9 MZI折射率传感区域的套刻与刻蚀 | 第37-39页 |
| 4.2.10 基片的封装,切割与抛光研磨 | 第39-40页 |
| 4.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 MZI折射率传感器的测试与结果 | 第41-44页 |
| 5.1 MZI折射率传感器直波导的损耗测试与结果 | 第41-42页 |
| 5.2 MZI折射率传感器的传感特性测试与结果 | 第42-43页 |
| 5.3 本章总结 | 第43-44页 |
| 第六章 布拉格光栅折射率传感器的结构和参数设计 | 第44-47页 |
| 6.1 布拉格光栅的介绍与原理 | 第44页 |
| 6.2 波导布拉格光栅折射率传感器的原理与结构 | 第44-45页 |
| 6.2.1 波导布拉格光栅折射率传感器的工作原理 | 第44-45页 |
| 6.2.2 波导布拉格光栅折射率传感器的材料与结构 | 第45页 |
| 6.3 波导布拉格光栅折射率传感器的结构参数设计 | 第45-46页 |
| 6.4 波导布拉格光栅折射率传感器的传感特性模拟 | 第46页 |
| 6.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第七章 布拉格光栅折射率传感器的制备流程 | 第47-53页 |
| 7.1 波导光栅折射率传感器的制备工艺流程 | 第47页 |
| 7.2 具体实验步骤 | 第47-52页 |
| 7.2.1 在二氧化硅下包层上制备光栅结构 | 第47-49页 |
| 7.2.2 芯层和上包层的制备 | 第49页 |
| 7.2.3 带有传感区的波导图形的制备 | 第49-51页 |
| 7.2.4 基片的封装,切割与研磨抛光 | 第51-52页 |
| 7.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第八章 总结与展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 硕士期间发表论文 | 第58页 |