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高灵敏二维半导体光电探测器及其机理分析

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第13-29页
    1.1 引言第13-14页
    1.2 光电流产生机理第14-17页
        1.2.1 光电导效应第14-15页
        1.2.2 光伏效应第15-16页
        1.2.3 光-热电效应第16页
        1.2.4 Bolometric效应第16-17页
    1.3 光电探测器性能指标第17-19页
        1.3.1 响应率R第17页
        1.3.2 外量子效率EQE和内量子效率IQE第17页
        1.3.3 响应时间τ和带宽B第17-18页
        1.3.4 信噪比SNR,噪声等效功率NEP和探测率D~*第18-19页
    1.4 不同二维材料光电探测器第19-27页
        1.4.1 过渡金属硫化物第20-23页
        1.4.2 黑磷第23-24页
        1.4.3 其他二维材料第24-27页
    1.5 本论文主要研究工作第27-28页
    1.6 本章小结第28-29页
第二章 二维材料及其器件制备与测试第29-36页
    2.1 二维材料的制备方法第29-31页
        2.1.1 机械剥离法第29页
        2.1.2 液相剥离法第29-30页
        2.1.3 化学气相沉积法第30-31页
    2.2 二维材料的结构表征第31-33页
        2.2.1 光学显微镜表征第31页
        2.2.2 原子力显微镜表征(AFM)第31-32页
        2.2.3 拉曼光谱表征第32-33页
        2.2.4 光致发光(PL)光谱第33页
    2.3 器件制备流程第33-35页
    2.4 本章小结第35-36页
第三章 铁电薄膜调控下的In_2Se_3红外光电探测器第36-43页
    3.1 引言第36页
    3.2 器件制备与性能测试第36-42页
        3.2.1 器件制备和电学性能测试第36-39页
        3.2.2 光电性能测试第39-42页
    3.3 本章小结第42-43页
第四章 高性能MoS_2光电探测器及其光电流产生机制第43-51页
    4.1 引言第43页
    4.2 器件制备及其电学性能测试第43-44页
    4.3 光电性能及其光电流产生机制第44-50页
        4.3.1 光电性能测试第44-46页
        4.3.2 分析光电流产生机制第46-50页
    4.4 本章小结第50-51页
第五章 总结与展望第51-53页
参考文献第53-62页
硕士期间发表文章第62-64页
致谢第64-65页

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