| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-29页 |
| 1.1 硬磁材料介绍 | 第9-16页 |
| 1.1.1 硬磁材料的磁学性能 | 第9-11页 |
| 1.1.2 硬磁材料的分类 | 第11-14页 |
| 1.1.3 硬磁材料的发展历程及其应用 | 第14-16页 |
| 1.2 SmCo_5硬磁材料的性质和研究背景 | 第16-19页 |
| 1.2.1 SmCo_5的晶体结构 | 第16-17页 |
| 1.2.2 SmCo_5的研究背景 | 第17-19页 |
| 1.3 国内外SmCo_5硬磁薄膜材料的研究现状 | 第19-22页 |
| 1.3.1 国外研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3.2 国内研究现状 | 第20-21页 |
| 1.3.3 国内外研究工作的展望 | 第21-22页 |
| 1.4 研究目的、内容及创新点 | 第22-23页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第22-23页 |
| 1.4.2 研究的主要内容 | 第23页 |
| 1.4.3 论文的创新点 | 第23页 |
| 1.5 SmCo_5薄膜样品的制备方法 | 第23-26页 |
| 1.5.1 磁控溅射法 | 第24-25页 |
| 1.5.2 分子束外延法 | 第25页 |
| 1.5.3 电沉积法 | 第25-26页 |
| 1.5.4 脉冲激光沉积法 | 第26页 |
| 1.6 基底表面上的薄膜生长机理 | 第26-29页 |
| 2 AE脉冲电源制备SmCo_5薄膜的实验过程 | 第29-40页 |
| 2.1 AE脉冲电源的介绍 | 第29页 |
| 2.2 薄膜样品的表征手段和测试方法 | 第29-37页 |
| 2.2.1 薄膜成分的表征 | 第29-31页 |
| 2.2.2 薄膜结构的表征 | 第31-32页 |
| 2.2.3 薄膜表面形貌的表征 | 第32-34页 |
| 2.2.4 薄膜磁性能的测量 | 第34-35页 |
| 2.2.5 薄膜厚度的测量 | 第35-37页 |
| 2.3 SmCo_5薄膜的制备的实验过程 | 第37-40页 |
| 2.3.1 磁控溅射的基本原理 | 第37-38页 |
| 2.3.2 基片的洗涤方法 | 第38页 |
| 2.3.3 实验设备和溅射工艺 | 第38-40页 |
| 3 SmCo_5薄膜及其性能的研究 | 第40-54页 |
| 3.1 制备工艺对Cr/SmCo_5/Cr结构和性能的影响 | 第40-45页 |
| 3.1.1 Cr缓冲层的厚度对其磁性能和结构的影响 | 第40-43页 |
| 3.1.2 SmCo_5的厚度对其磁性能和结构的影响 | 第43-45页 |
| 3.2 制备工艺对Cu/SmCo_5/Cr结构和形貌的影响 | 第45-53页 |
| 3.2.1 退火时间对其结构、形貌、性能的影响 | 第45-51页 |
| 3.2.2 不同的Cu缓冲层厚度对其结构的影响 | 第51-53页 |
| 3.3 总结 | 第53-54页 |
| 4 YIG薄膜磁电耦合效应的研究 | 第54-63页 |
| 4.1 研究背景及意义 | 第54页 |
| 4.2 国内外研究现状 | 第54-56页 |
| 4.3 研究内容 | 第56-57页 |
| 4.4 研究目标 | 第57-61页 |
| 4.5 小结 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第70页 |
