摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 透明低阻膜材料的研究进展 | 第12-18页 |
1.2.1 透明导电氧化物薄膜 | 第12-17页 |
1.2.1.1 SnO_2基TCO薄膜 | 第12-13页 |
1.2.1.2 In_2O_3基TCO薄膜 | 第13-15页 |
1.2.1.3 ZnO基TCO薄膜 | 第15-17页 |
1.2.2 D/M/D三层结构薄膜 | 第17-18页 |
1.3 GZO薄膜的研究进展 | 第18-20页 |
1.4 本文研究的目的和主要内容 | 第20-21页 |
第二章 薄膜的制备方法及表征 | 第21-30页 |
2.1 薄膜制备方法 | 第21-25页 |
2.1.1 磁控溅射 | 第21-22页 |
2.1.2 真空蒸发镀膜 | 第22页 |
2.1.3 脉冲激光沉积 | 第22-23页 |
2.1.4 离子镀 | 第23页 |
2.1.5 溶胶-凝胶 | 第23-24页 |
2.1.6 化学气相沉积 | 第24页 |
2.1.7 喷雾热解 | 第24-25页 |
2.2 薄膜表征与测试 | 第25-29页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 |
2.2.3 霍尔效应测试(Hall Effect) | 第26-27页 |
2.2.4 四探针测试 | 第27-28页 |
2.2.5 紫外-可见透射光谱 | 第28页 |
2.2.6 台阶仪 | 第28-29页 |
2.2.7 其他测试方法 | 第29页 |
2.3 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 GZO透明低阻膜材料的制备及工艺研究 | 第30-44页 |
3.1 GZO薄膜的制备 | 第30-31页 |
3.1.1 衬底的处理 | 第30页 |
3.1.2 样品的制备 | 第30-31页 |
3.2 溅射功率对薄膜特性的影响 | 第31-35页 |
3.2.1 溅射功率对薄膜结构特性的影响 | 第31-32页 |
3.2.2 溅射功率对薄膜电学特性的影响 | 第32-34页 |
3.2.3 溅射功率对薄膜光学特性的影响 | 第34-35页 |
3.3 衬底温度对薄膜特性的影响 | 第35-39页 |
3.3.1 衬底温度对薄膜结构特性的影响 | 第36-37页 |
3.3.2 衬底温度对薄膜电学特性的影响 | 第37-38页 |
3.3.3 衬底温度对薄膜光学特性的影响 | 第38-39页 |
3.4 溅射气氛对薄膜特性的影响 | 第39-42页 |
3.4.1 溅射气氛对薄膜结构特性的影响 | 第39-41页 |
3.4.2 溅射气氛对薄膜电学特性的影响 | 第41-42页 |
3.4.3 溅射气氛对薄膜光学特性的影响 | 第42页 |
3.5 本章小结 | 第42-44页 |
第四章 ZnO缓冲层对GZO薄膜性能影响研究 | 第44-51页 |
4.1 缓冲层对薄膜结构特性的影响 | 第44-46页 |
4.2 缓冲层对薄膜电学特性的影响 | 第46-47页 |
4.3 缓冲层对薄膜光学特性的影响 | 第47-48页 |
4.4 缓冲层对薄膜表面性能的影响 | 第48-49页 |
4.5 本章小结 | 第49-51页 |
第五章 多层结构GZO透明低阻膜材料 | 第51-63页 |
5.1 引言 | 第51-52页 |
5.2 GZO/Ag多层结构透明低阻膜材料 | 第52-57页 |
5.2.1 GZO/Ag多层结构透明低阻膜的结构特性 | 第52-53页 |
5.2.2 GZO/Ag多层结构透明低阻膜的电学特性 | 第53-54页 |
5.2.3 GZO/Ag多层结构透明低阻膜的光学特性 | 第54-56页 |
5.2.4 GZO/Ag多层结构透明低阻膜的品质因数 | 第56-57页 |
5.3 GZO/Ag/GZO多层结构透明低阻膜材料 | 第57-61页 |
5.3.1 GZO/Ag/GZO多层结构透明低阻膜的结构特性 | 第57-58页 |
5.3.2 GZO/Ag/GZO多层结构透明低阻膜的电学特性 | 第58-59页 |
5.3.3 GZO/Ag/GZO多层结构透明低阻膜的光学特性 | 第59-60页 |
5.3.4 GZO/Ag/GZO多层结构透明低阻膜的品质因数 | 第60-61页 |
5.4 本章小结 | 第61-63页 |
第六章 结论 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-71页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第71-72页 |