二硫化钼—石墨烯异质结的制备与研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 1 绪论 | 第13-31页 |
| ·石墨烯的国内外研究现状 | 第13-20页 |
| ·石墨烯的结构和性能 | 第14-16页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第16-18页 |
| ·石墨烯的应用 | 第18-20页 |
| ·MoS_2的国内外研究现状 | 第20-27页 |
| ·MoS_2的结构和性能 | 第20-23页 |
| ·MoS_2的制备方法 | 第23-25页 |
| ·MoS_2的应用 | 第25-27页 |
| ·异质结器件的国内外研究现状 | 第27-29页 |
| ·异质结的简介 | 第27-28页 |
| ·异质结的能带结构和 I-V 曲线 | 第28-29页 |
| ·异质结的应用 | 第29页 |
| ·本文的研究目的与意义 | 第29-30页 |
| ·MoS_2-石墨烯异质结器件的选题依据 | 第29-30页 |
| ·MoS_2-石墨烯异质结器件研究目的与意义 | 第30页 |
| ·论文的主要工作内容 | 第30-31页 |
| 2 化学方法制备石墨烯薄膜 | 第31-44页 |
| ·实验材料与仪器 | 第31页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第31-38页 |
| ·引言 | 第31-33页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第33页 |
| ·氧化石墨烯水溶液的制备 | 第33-34页 |
| ·氧化石墨烯的性能表征分析 | 第34-38页 |
| ·石墨烯及石墨烯薄膜的制备 | 第38-42页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·石墨烯薄膜的制备 | 第38-39页 |
| ·石墨烯的表征分析 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 3 液相溶液剥离法制备石墨烯 | 第44-50页 |
| ·实验材料、试剂与仪器 | 第44页 |
| ·石墨烯分散液的制备 | 第44-46页 |
| ·石墨烯的表征分析 | 第46-48页 |
| ·石墨烯分散液的紫外光谱分析 | 第46-47页 |
| ·石墨烯分散液的宏观结果分析 | 第47页 |
| ·石墨烯分散液的 SEM 表面形貌分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 4 化学气相沉积法制备石墨烯 | 第50-54页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第50页 |
| ·实验过程 | 第50-51页 |
| ·石墨稀的转移 | 第51-52页 |
| ·石墨烯的表征 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 5 射频磁控溅射法制备二硫化钼 | 第54-62页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·射频磁控溅射法的基本原理 | 第54-55页 |
| ·二硫化钼薄膜的制备 | 第55-59页 |
| ·实验材料、试剂及仪器 | 第55页 |
| ·实验部分 | 第55-59页 |
| ·层状 MoS_2薄膜的表征 | 第59-61页 |
| ·MoS_2薄膜的 SEM 分析 | 第59-60页 |
| ·MoS_2薄膜的 XRD 组织结构分析 | 第60页 |
| ·MoS_2薄膜的拉曼光谱分析 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 6 MoS_2-石墨烯异质结的设计与研究 | 第62-67页 |
| ·MoS_2-石墨烯异质结的设计与制备 | 第62页 |
| ·MoS_2与金属电极接触结的分析 | 第62-63页 |
| ·石墨烯与金属电极接触结的分析 | 第63-65页 |
| ·MoS_2-石墨烯异质结的性能测试与分析 | 第65-67页 |
| 7 结论与展望 | 第67-69页 |
| ·全文工作总结 | 第67页 |
| ·未来工作展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 攻读学位期间发表的论文目录 | 第79-80页 |