| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-25页 |
| ·碳化硅概述 | 第11-13页 |
| ·碳化硅的结构 | 第11-12页 |
| ·碳化硅的性质及其应用 | 第12-13页 |
| ·碳化硅的合成方法 | 第13-18页 |
| ·高比表面积碳化硅概述 | 第13-15页 |
| ·碳化硅纳米线概述 | 第15-18页 |
| ·甲烷干重整制合成气概述 | 第18-23页 |
| ·合成气制备简介 | 第18-19页 |
| ·DRM反应机理 | 第19-21页 |
| ·DRM反应催化剂的发展 | 第21-23页 |
| ·论文的选题依据与主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 高比表面积碳化硅的制备研究 | 第25-34页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·材料合成与表征 | 第25-26页 |
| ·实验试剂 | 第25页 |
| ·材料合成方法 | 第25-26页 |
| ·样品的表征 | 第26页 |
| ·结果讨论 | 第26-33页 |
| ·氧化硅多孔材料的制备 | 第26-28页 |
| ·碳化硅的制备 | 第28-33页 |
| ·结论 | 第33-34页 |
| 第3章 碳化硅形貌调控的研究 | 第34-50页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·材料合成与表征 | 第34-35页 |
| ·实验试剂 | 第34页 |
| ·制备方法 | 第34-35页 |
| ·表征方法 | 第35页 |
| ·结果和讨论 | 第35-48页 |
| ·高含量催化剂得到的碳化硅 | 第35-40页 |
| ·较低含量催化剂得到的碳化硅 | 第40-43页 |
| ·碳化硅纳米线纳米线 | 第43-47页 |
| ·碳化硅纳米线生长机理 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第4章 催化剂Ni/CeO_2/SiC的制备及对甲烷干重整反应催化性能的研究 | 第50-59页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·材料合成与表征 | 第50-52页 |
| ·实验试剂 | 第50-51页 |
| ·催化剂的制备 | 第51页 |
| ·催化剂的表征 | 第51页 |
| ·甲烷干重整反应 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-58页 |
| ·催化剂的组分分析 | 第52-53页 |
| ·催化剂的XRD表征 | 第53页 |
| ·催化剂的XPS表征 | 第53-54页 |
| ·催化性能研究 | 第54-56页 |
| ·催化反应后催化剂的性能表征 | 第56-58页 |
| ·总结 | 第58-59页 |
| 第5章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在读期间发表或待发表的论文 | 第70页 |