摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-9页 |
目录 | 第9-11页 |
第一章 绪论 | 第11-24页 |
·引言 | 第11-12页 |
·cBN的性能特点及应用与cBN合成方法 | 第12-13页 |
·静态高压法合成触媒的比较 | 第13-15页 |
·静态高压法下cBN合成机理研究概况 | 第15-19页 |
·有关cBN转变机制的争议 | 第19-22页 |
·hBN/cBN的电子结构 | 第22-23页 |
·本文的主要研究内容及研究目的 | 第23-24页 |
第二章 实验材料和实验方法 | 第24-27页 |
·静态高压法cBN合成实验 | 第24-25页 |
·合成块断口及cBN单晶表面形貌观察 | 第25-26页 |
·cBN单晶表面及触媒结构分层表征 | 第26页 |
·cBN单晶表面触媒电子结构分层XPS表征 | 第26-27页 |
第三章 合成块断口及cBN单晶表面形貌观察 | 第27-37页 |
·引言 | 第27-28页 |
·cBN单晶表面触媒的SEM观察 | 第28-29页 |
·合成块断口形貌的SEM观察 | 第29-33页 |
·cBN单晶的AFM观察 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-37页 |
第四章 cBN单晶表面及触媒结构的分层表征及分析 | 第37-45页 |
·引言 | 第37页 |
·cBN单晶表面触媒结构的XRD分层表征及分析 | 第37-41页 |
·cBN单晶表面触媒微结构表征 | 第41-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第五章 cBN单晶表面触媒等物质电子结构的分层表征及分析 | 第45-55页 |
·引言 | 第45页 |
·N元素的XPS分析 | 第45-49页 |
·B元素的XPS分析 | 第49-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第六章 cBN单晶高温高压合成机理初探 | 第55-61页 |
·引言 | 第55-56页 |
·高温高压下cBN单晶生长环境 | 第56-57页 |
·高温高压下cBN单晶生长过程 | 第57-58页 |
·高温高压下B、N电子结构的转变 | 第58-60页 |
·cBN单晶合成机理分析的局限性 | 第60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第七章 结论 | 第61-63页 |
·主要结论 | 第61-62页 |
·展望 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第70页 |