硅太阳电池氮化硅薄膜钝化及发光性质研究

摘要	第1-7页
Abstract	第7-11页
第一章 绪论	第11-26页
·太阳电池的研究背景	第11-12页
·太阳电池工作原理	第12-13页
·太阳电池的发展趋势	第13-16页
·提高表面钝化的必要性	第16-17页
·氮化硅薄膜在太阳电池的应用的现状	第17-22页
·本论文的结构	第22-23页
参考文献	第23-26页
第二章 实验工艺及测试手段	第26-37页
·PECVD设备介绍	第26-27页
·PECVD各参数对氮化硅薄膜质量影响	第27-29页
·复合的类型,钝化的表征方法	第29-32页
·实验仪器介绍	第32-35页
·XRD测试介绍	第32页
·X射线光电子能谱(XPS)	第32-33页
·FTIR测试介绍	第33-35页
参考文献	第35-37页
第三章 氮化硅薄膜的性质及沉积温度研究	第37-47页
·氮化硅薄膜的晶态分析	第37页
·氮化硅薄膜中固定电荷的形成及测试	第37-40页
·固定正电荷的形成	第38页
·固定正电荷的测试	第38-40页
·产线工艺中温度调试研究	第40-45页
参考文献	第45-47页
第四章 P型硅太阳电池背面钝化研究实验	第47-52页
·引言	第47页
·P型硅太阳电池的背面钝化研究	第47-51页
参考文献	第51-52页
第五章 氮化硅薄膜的发光研究	第52-60页
·引言	第52-53页
·氮化硅发光性质及结构研究	第53-58页
参考文献	第58-60页
第六章 结论与展望	第60-62页
硕士期间发表论文	第62-63页
致谢	第63-64页