| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| Contents | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| ·砷的污染与危害 | 第14-17页 |
| ·砷危害的概述 | 第14-15页 |
| ·国内外的除砷方法 | 第15-17页 |
| ·二氧化钛概述 | 第17-21页 |
| ·纳米TiO_2粉体的制备方法 | 第17-18页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| ·TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)原理 | 第20-21页 |
| ·TiO_2光电催化技术 | 第21-23页 |
| ·TiO_2光电催化原理 | 第22页 |
| ·光电催化技术的应用 | 第22-23页 |
| ·本课题的提出及意义 | 第23-24页 |
| 第二章 阴极电沉积法制备Zn/TiO_2/泡沫镍 | 第24-47页 |
| ·实验部分 | 第24-31页 |
| ·实验方法及仪器设备 | 第24-25页 |
| ·实验药品 | 第25-26页 |
| ·工艺流程及实验装置 | 第26-27页 |
| ·基材的预处理 | 第27页 |
| ·电沉积镀液的制备 | 第27-28页 |
| ·反应原理 | 第28-29页 |
| ·催化剂的表征 | 第29-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-45页 |
| ·电沉积电压的对催化剂效果的影响 | 第31-33页 |
| ·沉积时间的影响 | 第33-34页 |
| ·镀液pH的影响 | 第34-36页 |
| ·主盐(硫酸氧钛)浓度的影响 | 第36-38页 |
| ·不同的Zn掺杂比例时光催化活性 | 第38-39页 |
| ·TiO_2/泡沫镍和Zn/TiO_2/泡沫镍的表面形貌 | 第39页 |
| ·晶型测定 | 第39-40页 |
| ·XPS | 第40-42页 |
| ·紫外-可见UV-Vis测定 | 第42-43页 |
| ·光催化活性测试 | 第43-44页 |
| ·光电化学性能测试 | 第44-45页 |
| ·基材镍溶出分析 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第三章 Zn/TiO_2/泡沫镍对砷的吸附 | 第47-56页 |
| ·实验部分 | 第47-50页 |
| ·砷的检测 | 第47-49页 |
| ·吸附动力学 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-55页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第50-51页 |
| ·动力学曲线 | 第51-54页 |
| ·pH值对砷吸附的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 光电协同作用催化氧化砷 | 第56-66页 |
| ·实验部分 | 第56-65页 |
| ·光催化时间对氧化As(Ⅲ)的影响 | 第56-58页 |
| ·催化剂用量对氧化As(Ⅲ)的影响 | 第58页 |
| ·溶液pH对氧化As(Ⅲ)的影响 | 第58-59页 |
| ·不同As(Ⅲ)初始浓度的影响 | 第59-60页 |
| ·催化剂的循环使用性能 | 第60-61页 |
| ·TiO_2光催化As(Ⅲ)的机理 | 第61-62页 |
| ·添加苯甲酸对光催化As(Ⅲ)的影响 | 第62-63页 |
| ·光电协同催化氧化As(Ⅲ) | 第63-64页 |
| ·不同偏压和气体对光催化氧化As(Ⅲ)影响 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |