| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·钙钛矿锰氧化物相关物理基础 | 第11-20页 |
| ·强关联电子学 | 第11-12页 |
| ·钙钛矿锰氧化物基本结构 | 第12-13页 |
| ·锰氧化物的晶体场效应和Jahn-Teller畸变效应 | 第13-14页 |
| ·双交换作用 | 第14-16页 |
| ·锰氧化物的金属—绝缘体转变 | 第16-20页 |
| ·锰氧化物系统的电子相分离 | 第20-22页 |
| ·锰氧化物外延膜的应变效应 | 第22-28页 |
| ·外延膜的应变及其调控 | 第22-25页 |
| ·外延膜晶格应变对其物理性能的影响 | 第25-26页 |
| ·La_(1-x-y)Pr_yCa_xMnO_3薄膜研究进展 | 第26-28页 |
| ·本论文的研究内容及方法 | 第28-29页 |
| 第二章 样品制备及测试 | 第29-42页 |
| ·La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3靶材的制备 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射制备La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3薄膜 | 第30-33页 |
| ·磁控溅射原理及仪器设备简介 | 第30-32页 |
| ·La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·薄膜结构测试分析 | 第33-38页 |
| ·X射线衍射基本原理 | 第33-35页 |
| ·薄膜衍射相关知识(Ewald球和倒空间扫描) | 第35-37页 |
| ·原子力显微镜 | 第37-38页 |
| ·薄膜电磁性质测试分析 | 第38-42页 |
| ·自制的低温电学测量系统 | 第38-40页 |
| ·综合物性测量系统 | 第40-42页 |
| 第三章 (001)取向La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3外延膜电输运的应变调控 | 第42-52页 |
| ·背景介绍 | 第42-43页 |
| ·La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3薄膜的基本性质 | 第43-47页 |
| ·LPCMO薄膜的XRD结构表征 | 第44-45页 |
| ·表面形貌 | 第45页 |
| ·La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3薄膜的电阻率温度曲线 | 第45-47页 |
| ·退火对La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3薄膜应变状态及电输运性质的影响 | 第47-50页 |
| ·对薄膜应变和晶体结构的影响 | 第47-49页 |
| ·对表面形貌的影响 | 第49页 |
| ·对La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3薄膜的电阻率的影响 | 第49-50页 |
| ·结果和讨论 | 第50-52页 |
| 第四章 (110)取向La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3外延膜电输运的应变调控 | 第52-63页 |
| ·La_(5/8-0.3)Pr_(0.3)Ca_(3/8)MnO_3薄膜的结构表征 | 第52-55页 |
| ·La5/8-0.3Pr0.3Ca3/8MnO3薄膜的电学性质 | 第55-62页 |
| ·衬底调控下的各向异性电输运性质 | 第55-58页 |
| ·LPCMO/NGO(011)薄膜中的二次金属—绝缘体转变 | 第58-59页 |
| ·纳米线中二次金属—绝缘体转变的文献调研 | 第59-62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
