修正板改善薄膜厚度均匀性的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| ·光学薄膜的发展及应用 | 第9-12页 |
| ·光学薄膜的研究与现状 | 第9-10页 |
| ·光学薄膜制备工艺的发展 | 第10-11页 |
| ·光学薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·薄膜的几种物理气相沉积制备方法 | 第12-16页 |
| ·真空蒸发 | 第13-14页 |
| ·溅射 | 第14-15页 |
| ·离子镀 | 第15-16页 |
| ·薄膜膜厚的均匀性及影响因素 | 第16-22页 |
| ·光学薄膜理论膜厚 | 第16-18页 |
| ·薄膜均匀性的影响因素 | 第18-22页 |
| ·本论文研究的背景、意义和内容 | 第22-24页 |
| 第2章 光学薄膜的制备及膜厚分布 | 第24-35页 |
| ·实验设备 | 第24-27页 |
| ·真空的获得 | 第25-26页 |
| ·电子束蒸发 | 第26-27页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·膜料属性 | 第27-28页 |
| ·TiO2薄膜的制备工艺 | 第28页 |
| ·几种常用夹具下的膜厚分布 | 第28-33页 |
| ·平面转动夹具 | 第29-30页 |
| ·球面转动夹具 | 第30-31页 |
| ·行星夹具 | 第31-33页 |
| ·薄膜光学常数的计算 | 第33-35页 |
| 第3章 薄膜理论膜厚分布及实验验证 | 第35-39页 |
| ·球面夹具下的理论分析 | 第35-36页 |
| ·实验验证 | 第36-38页 |
| ·结果分析 | 第38-39页 |
| 第4章 修正档板设计 | 第39-44页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·论设计 | 第39-42页 |
| ·实验验证 | 第42-44页 |
| 第5章 全文总结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
