摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
致谢 | 第9-15页 |
第一章 绪论 | 第15-30页 |
·甘油酯及邻苯二酚的研究进展 | 第15-21页 |
·甘油酯的研究进展 | 第15-19页 |
·邻苯二酚的研究进展 | 第19-21页 |
·碳电极、介孔 SiO_2及纳米 NiO 在电化学传感中的应用进展 | 第21-27页 |
·碳电极研究进展 | 第21-23页 |
·介孔 SiO_2的研究进展 | 第23-24页 |
·纳米 NiO 的研究及应用进展 | 第24-27页 |
·实验思路及技术路线 | 第27-30页 |
·实验思路 | 第27页 |
·技术路线 | 第27-30页 |
第二章 材料与方法 | 第30-34页 |
·试剂 | 第30页 |
·仪器 | 第30-31页 |
·溶液的配制 | 第31-33页 |
·修饰电极的制备 | 第33-34页 |
·脂肪酶修饰印刷电极的制备 | 第33页 |
·酪氨酸酶修饰印刷电极的制备 | 第33页 |
·酪氨酸酶修饰玻碳电极的制备 | 第33-34页 |
第三章 单油酸甘油酯在脂肪酶修饰 SPE 上的电化学传感 | 第34-42页 |
·单油酸甘油酯在脂肪酶修饰 SPE 上的循环伏安行为 | 第34页 |
·SPE 电极修饰条件的优化 | 第34-35页 |
·反应体系条件优化 | 第35-38页 |
·乳化剂的选择 | 第35-36页 |
·缓冲液 pH 值对单油酸甘油酯测定的影响 | 第36-37页 |
·脂肪酶修饰量对单油酯的影响确定最适脂肪酶量 | 第37-38页 |
·单油酸甘油酯在脂肪酶修饰 SPE 上的循环伏安响应 | 第38-39页 |
·不同扫描速度对单油酸甘油酯循环伏安行为的影响 | 第38页 |
·循环伏安法测定单油酸甘油酯 | 第38-39页 |
·用计时电量法得到单油酸甘油酯的标准曲线 | 第39-40页 |
·加标回收实验 | 第40-42页 |
第四章 脂肪酶修饰 SPE 测定三油酸甘油酯 | 第42-49页 |
·三油酸甘油酯在脂肪酶修饰剂修饰 SPE 上的循环伏安行为 | 第42页 |
·三油酸甘油酯检测条件的优化 | 第42-44页 |
·乳化剂的选择 | 第42-43页 |
·pH 值、脂肪酶含量和 0.5%壳聚糖用量对 CV 峰电流的影响 . | 第43-44页 |
·三油酸甘油酯在脂肪酶修饰 SPE 上的循环伏安响应 | 第44-46页 |
·计时电量法测定三油酸甘油酯含量 | 第46-47页 |
·加标回收实验 | 第47-48页 |
·传感器重现性及寿命 | 第48-49页 |
第五章 酪氨酸酶@介孔 SiO_2修饰 NiO-SPE 测邻苯二酚 | 第49-57页 |
·邻苯二酚在修饰剂修饰 SPE 上的循环伏安行为 | 第49页 |
·最佳试验参数选择 | 第49-51页 |
·最佳电化学氧化电压的选择 | 第49-50页 |
·最佳电化学氧化时间的选择 | 第50-51页 |
·电化学氧化时搅动与否比较 | 第51页 |
·几种不同物质修饰 SPE 产生的电化学响应 | 第51-55页 |
·几种不同物质修饰 SPE 所对应的 CV | 第51-53页 |
·0.05% PDDA 量的影响 | 第53-54页 |
·吸附酪氨酸酶量的影响 | 第54-55页 |
·不同浓度邻苯二酚对应的 CV 和 DPV | 第55页 |
·标准曲线 | 第55-57页 |
第六章 酪氨酸酶@介孔 SiO_2 修饰 GCE 检测茶叶中邻苯二酚 | 第57-65页 |
·邻苯二酚在酪氨酸酶@介孔 SiO_2修饰 GCE(Tyr@SiO_2/GCE)上的循环伏安行为 | 第57页 |
·邻苯二酚测定条件的优化 | 第57-59页 |
·pH 的影响 | 第57-58页 |
·修饰酪氨酸酶量的影响 | 第58-59页 |
·标准曲线 | 第59-60页 |
·邻苯二酚传感器的安培响应:时间-电流(i-t)曲线 | 第60-61页 |
·交流阻抗图谱 | 第61-62页 |
·介孔二氧化硅对酪氨酸酶的吸附 | 第62-63页 |
·茶叶中邻苯二酚含量的测定 | 第63-65页 |
结论 | 第65-66页 |
参考文献: | 第66-73页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第73-74页 |