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磁控溅射法制备薄膜及其性质研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-16页
   ·薄膜材料概述第9页
   ·薄膜的制备方法第9-10页
   ·磁控溅射镀膜法第10-11页
     ·磁控溅射镀膜原理第10-11页
   ·涂层与基体间的结合力第11-15页
     ·影响界面结合力的因素第11页
     ·常用评价涂层与基体间界面结合力的方法第11-15页
       ·拉伸法第12页
       ·划痕法第12-14页
       ·压痕法第14-15页
   ·铁电多层膜综述第15页
   ·论文思路第15-16页
第2章 基体硬度对薄膜与基体间结合力的影响第16-25页
   ·引言第16页
   ·实验部分第16-19页
     ·试验流程设计第16页
     ·主要试验设备第16-17页
     ·基体制备第17-18页
       ·试验材料第17-18页
       ·镀膜前的准备第18页
     ·磁控溅射镀膜过程第18-19页
       ·镀膜试验参数设定第19页
   ·结果与讨论第19-23页
     ·光学显微镜法分析临界压力第19-21页
     ·声发射法分析临界压力第21-23页
   ·结论第23-25页
第3章 铁电多层膜的组装与性能第25-55页
   ·引言第25页
   ·实验部分第25-29页
     ·实验原料及实验仪器第25-26页
     ·表征方法第26页
       ·X 射线衍射(XRD)分析第26页
       ·场发射扫描电镜(SEM)分析第26页
       ·紫外-可见吸收光谱(UV-VIS)分析第26页
     ·实验步骤第26-29页
       ·镀膜过程第26-28页
       ·单一靶材 PTO 的溅射实验第28页
       ·单一靶材 PZO 的溅射实验第28页
       ·PZO 与 PTO 的复合溅射实验第28-29页
   ·结果与讨论第29-54页
     ·PTO 的厚度分析第29-34页
       ·溅射时间的影响第29-33页
       ·溅射功率的影响第33-34页
     ·PZO 的 UV-VIS分析第34-37页
       ·溅射时间的影响第34-36页
       ·溅射功率的影响第36-37页
     ·PZO/PTO 超晶格铁电薄膜材料的厚度分析第37-43页
       ·100W 溅射超晶格铁电复合材料第37-39页
       ·150W 溅射超晶格铁电复合材料第39-41页
       ·200W 溅射超晶格铁电复合材料第41-43页
     ·PZO/PTO 超晶格铁电薄膜材料结构分析第43-50页
       ·溅射时间对 PTO 结构的影响第43页
       ·热处理对 PTO 结构的影响第43-44页
       ·溅射功率对 PTO 结构的影响第44-45页
       ·时间、热处理、溅射功率对 PZO 结构的影响第45-47页
       ·叠加次序对 PZO/PTO 超晶格铁电材料结构的影响第47页
       ·溅射功率对 PZO/PTO 超晶格铁电材料结构的影响第47-50页
     ·PZO/PTO 超晶格铁电薄膜材料形貌与元素组成第50-54页
       ·SEM 表面形貌分析第50-52页
       ·EDS 元素分析第52-54页
   ·结论第54-55页
第4章 磁控溅射法制备 AlN 薄膜及结构性能表征第55-63页
   ·引言第55页
   ·实验部分第55-57页
     ·实验设备第55页
     ·基体准备第55-57页
     ·镀膜工艺流程第57页
     ·AlN 薄膜制备第57页
   ·实验结果和分析第57-62页
     ·AlN 薄膜的导热性能第57-59页
       ·石英玻璃测试第57-58页
       ·导电玻璃测试第58-59页
     ·AlN 薄膜的光学性能第59-60页
     ·AlN 薄膜的成分及结构分析第60-62页
       ·成分分析第60-62页
       ·结构分析第62页
   ·结论第62-63页
第5章 结论第63-64页
参考文献第64-67页
攻读学位期间所开展的科研项目和发表的学术论文第67-68页
致谢第68页

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