摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-16页 |
·薄膜材料概述 | 第9页 |
·薄膜的制备方法 | 第9-10页 |
·磁控溅射镀膜法 | 第10-11页 |
·磁控溅射镀膜原理 | 第10-11页 |
·涂层与基体间的结合力 | 第11-15页 |
·影响界面结合力的因素 | 第11页 |
·常用评价涂层与基体间界面结合力的方法 | 第11-15页 |
·拉伸法 | 第12页 |
·划痕法 | 第12-14页 |
·压痕法 | 第14-15页 |
·铁电多层膜综述 | 第15页 |
·论文思路 | 第15-16页 |
第2章 基体硬度对薄膜与基体间结合力的影响 | 第16-25页 |
·引言 | 第16页 |
·实验部分 | 第16-19页 |
·试验流程设计 | 第16页 |
·主要试验设备 | 第16-17页 |
·基体制备 | 第17-18页 |
·试验材料 | 第17-18页 |
·镀膜前的准备 | 第18页 |
·磁控溅射镀膜过程 | 第18-19页 |
·镀膜试验参数设定 | 第19页 |
·结果与讨论 | 第19-23页 |
·光学显微镜法分析临界压力 | 第19-21页 |
·声发射法分析临界压力 | 第21-23页 |
·结论 | 第23-25页 |
第3章 铁电多层膜的组装与性能 | 第25-55页 |
·引言 | 第25页 |
·实验部分 | 第25-29页 |
·实验原料及实验仪器 | 第25-26页 |
·表征方法 | 第26页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第26页 |
·场发射扫描电镜(SEM)分析 | 第26页 |
·紫外-可见吸收光谱(UV-VIS)分析 | 第26页 |
·实验步骤 | 第26-29页 |
·镀膜过程 | 第26-28页 |
·单一靶材 PTO 的溅射实验 | 第28页 |
·单一靶材 PZO 的溅射实验 | 第28页 |
·PZO 与 PTO 的复合溅射实验 | 第28-29页 |
·结果与讨论 | 第29-54页 |
·PTO 的厚度分析 | 第29-34页 |
·溅射时间的影响 | 第29-33页 |
·溅射功率的影响 | 第33-34页 |
·PZO 的 UV-VIS分析 | 第34-37页 |
·溅射时间的影响 | 第34-36页 |
·溅射功率的影响 | 第36-37页 |
·PZO/PTO 超晶格铁电薄膜材料的厚度分析 | 第37-43页 |
·100W 溅射超晶格铁电复合材料 | 第37-39页 |
·150W 溅射超晶格铁电复合材料 | 第39-41页 |
·200W 溅射超晶格铁电复合材料 | 第41-43页 |
·PZO/PTO 超晶格铁电薄膜材料结构分析 | 第43-50页 |
·溅射时间对 PTO 结构的影响 | 第43页 |
·热处理对 PTO 结构的影响 | 第43-44页 |
·溅射功率对 PTO 结构的影响 | 第44-45页 |
·时间、热处理、溅射功率对 PZO 结构的影响 | 第45-47页 |
·叠加次序对 PZO/PTO 超晶格铁电材料结构的影响 | 第47页 |
·溅射功率对 PZO/PTO 超晶格铁电材料结构的影响 | 第47-50页 |
·PZO/PTO 超晶格铁电薄膜材料形貌与元素组成 | 第50-54页 |
·SEM 表面形貌分析 | 第50-52页 |
·EDS 元素分析 | 第52-54页 |
·结论 | 第54-55页 |
第4章 磁控溅射法制备 AlN 薄膜及结构性能表征 | 第55-63页 |
·引言 | 第55页 |
·实验部分 | 第55-57页 |
·实验设备 | 第55页 |
·基体准备 | 第55-57页 |
·镀膜工艺流程 | 第57页 |
·AlN 薄膜制备 | 第57页 |
·实验结果和分析 | 第57-62页 |
·AlN 薄膜的导热性能 | 第57-59页 |
·石英玻璃测试 | 第57-58页 |
·导电玻璃测试 | 第58-59页 |
·AlN 薄膜的光学性能 | 第59-60页 |
·AlN 薄膜的成分及结构分析 | 第60-62页 |
·成分分析 | 第60-62页 |
·结构分析 | 第62页 |
·结论 | 第62-63页 |
第5章 结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
攻读学位期间所开展的科研项目和发表的学术论文 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |