| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-18页 |
| ·铁电材料的物性和结构 | 第10-11页 |
| ·铁电材料的研究历史 | 第11-13页 |
| ·铁电存储器与导电扩散阻挡层的研究进展 | 第13-16页 |
| ·本论文的主要内容及其意义 | 第16-18页 |
| 第2章 薄膜材料的制备技术和检测手段 | 第18-26页 |
| ·铁电薄膜材料的制备技术 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第18-20页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第20-21页 |
| ·薄膜材料的检测方法 | 第21-26页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第21-23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第24-26页 |
| ·X射线激发源 | 第24-25页 |
| ·XPS的采样深度 | 第25-26页 |
| 第3章 超薄Ni-Ti薄膜导电阻挡层的性能研究 | 第26-33页 |
| ·实验过程 | 第26-27页 |
| ·实验结果与讨论 | 第27-31页 |
| ·小结 | 第31-33页 |
| 第4章 Ni-Ti薄膜的沉积功率对导电阻挡层性能影响研究 | 第33-40页 |
| ·实验过程 | 第33-34页 |
| ·实验结果与分析 | 第34-39页 |
| ·结论 | 第39-40页 |
| 第5章 不同晶态的Ni-Al薄膜对导电阻挡层性能的影响研究 | 第40-49页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·实验结果和分析 | 第41-48页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| 结束语 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |