| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·本课题研究的背景及意义 | 第10-11页 |
| ·国内外相关领域的研究进展及成果 | 第11-19页 |
| ·GaAs 材料的研究进展 | 第11-17页 |
| ·电沉积方法的研究进展 | 第17-19页 |
| ·存在的不足和有待深入研究的问题 | 第19页 |
| ·课题的来源和主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 电沉积的基本原理 | 第21-35页 |
| ·电化学基础 | 第21-25页 |
| ·电沉积系统中电化学池的组成 | 第21-22页 |
| ·法拉第定律与电流效率 | 第22-23页 |
| ·电极电位与电极极化 | 第23-25页 |
| ·金属离子沉积的电化学过程 | 第25-29页 |
| ·传质过程 | 第25-27页 |
| ·电极的双电层模型与界面反应 | 第27-29页 |
| ·电沉积结晶生长过程 | 第29-34页 |
| ·电沉积结晶形核 | 第30-31页 |
| ·螺旋位错生长 | 第31页 |
| ·电沉积结晶生长 | 第31-33页 |
| ·电沉积膜层的形态 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 电共沉积GaAs 薄膜原理与实验方案 | 第35-39页 |
| ·合金电共沉积的基本条件 | 第35-36页 |
| ·电共沉积 GaAs 的基本原理 | 第36-37页 |
| ·电共沉积 GaAs 的实验方案 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 GaAs 薄膜电共沉积制备 | 第39-51页 |
| ·电共沉积 GaAs 实验 | 第39-42页 |
| ·所用试剂与仪器 | 第39-40页 |
| ·电解液的配制 | 第40-41页 |
| ·电极的处理 | 第41页 |
| ·电沉积的实验装置 | 第41-42页 |
| ·电共沉积 GaAs 的最优工艺条件 | 第42页 |
| ·影响电共沉积 GaAs 薄膜成分的因素 | 第42-49页 |
| ·电极材料对电共沉积GaAs 的影响 | 第43-44页 |
| ·电解液中金属离子浓度和浓度比对电共沉积GaAs 的影响 | 第44-46页 |
| ·H_2 析出对电共沉积GaAs 的影响 | 第46-47页 |
| ·电沉积过程中的烧焦现象和电火花现象 | 第47-48页 |
| ·络合物EDTA 对电共沉积GaAs 的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 电共沉积 GaAs 薄膜的测试与分析 | 第51-57页 |
| ·电共沉积 GaAs 薄膜的结构与组分分析 | 第51-53页 |
| ·电共沉积 GaAs 薄膜导电类型测量 | 第53-54页 |
| ·电共沉积 GaAs 薄膜与衬底间的 I-V 特性 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |