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非晶磁弹性薄膜中应力对磁性能的影响研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-13页
第一章 绪论第13-25页
   ·研究意义与研究目的第13-14页
   ·国内外研究进展第14-21页
     ·应力对铁磁薄膜磁性能影响的理论研究第14-16页
     ·应力对铁磁薄膜磁性能影响的实验研究第16-19页
     ·应力-磁敏感特性的应用研究第19-21页
   ·选题依据第21-23页
   ·主要研究内容第23-25页
第二章 FeCoSiB非晶薄膜的制备与磁性能研究第25-45页
   ·薄膜制备方法第25-27页
     ·DC磁控溅射方法第25-26页
     ·应力生长方法第26-27页
   ·微结构与磁性能表征方法第27-33页
     ·XRD分析第27-28页
     ·表面形貌分析第28-29页
     ·磁畴结构表征第29-31页
     ·磁性能表征第31页
     ·应力阻抗效应测试第31-33页
   ·溅射气压对FeCoSiB薄膜性能的影响第33-44页
     ·溅射气压对FeCoSiB薄膜成分的影响第33-34页
     ·溅射气压对FeCoSiB薄膜表面形貌的影响第34-36页
     ·溅射气压对FeCoSiB薄膜磁畴结构的影响第36-42页
     ·溅射气压对FeCoSiB薄膜磁滞回线的影响第42-44页
   ·本章小结第44-45页
第三章 应力对非晶磁弹性薄膜磁畴的影响第45-69页
   ·引言第45-47页
     ·磁各向异性第45页
     ·磁弹各向异性第45-47页
     ·磁畴第47页
   ·应力作用下FeCoSiB薄膜的磁畴结构第47-54页
     ·张应力下FeCoSiB薄膜的磁畴结构第48-50页
     ·压应力下FeCoSiB薄膜的磁畴结构第50-52页
     ·应力作用下条状畴的转动第52-53页
     ·应力作用下磁畴结构变化规律分析第53-54页
   ·应力对非晶磁弹性薄膜磁畴影响的微磁学模型第54-68页
     ·微磁学理论概述第54-59页
     ·模型建立第59-65页
     ·模拟结果与讨论第65-68页
   ·本章小结第68-69页
第四章 应力对非晶磁性薄膜磁化过程的影响第69-106页
   ·引言第69-71页
     ·磁化过程概述第69-70页
     ·磁滞回线概述第70-71页
   ·磁滞回线的经典模型第71-76页
     ·Stoner-Wohlfarth畴转模型第71-74页
     ·Jiles-Atherton畴壁位移模型第74-76页
   ·应力相关的铁磁薄膜畴转磁滞回线模型第76-83页
     ·模型建立第77-78页
     ·计算结果与讨论第78-83页
   ·应力相关的铁磁薄膜畴壁位移磁滞回线模型第83-97页
     ·JA模型描述应力效应的概述第84-86页
     ·模型建立第86-91页
     ·计算结果与讨论第91-96页
     ·壁移和畴转模型中应力作用的比较第96-97页
   ·应力生长FeCoSiB薄膜磁性能的研究第97-105页
     ·磁滞回线第97-100页
     ·剩磁第100-102页
     ·矫顽力第102-104页
     ·各向异性场第104-105页
   ·本章小结第105-106页
第五章 应力对铁磁薄膜高频磁特性的影响第106-130页
   ·引言第106-108页
     ·铁磁薄膜的高频磁导率第106-107页
     ·磁矩动力学方程——LLG方程第107-108页
   ·应力对铁磁薄膜高频磁导率影响的微磁学模型第108-122页
     ·微磁学模型的建立第108-115页
     ·应力对高频磁导率的影响第115-117页
     ·应力阻抗效应第117-122页
   ·FeCoSiB非晶磁弹性薄膜的应力阻抗效应第122-128页
     ·柔性基底上FeCoSiB非晶薄膜的制备第122-123页
     ·溅射气压对应力阻抗效应的影响第123-125页
     ·FeCoSiB薄膜厚度对应力阻抗效应的影响第125页
     ·测试频率对应力阻抗效应的影响第125-127页
     ·横向磁各向异性对应力阻抗效应的影响第127-128页
   ·本章小结第128-130页
第六章 总结与展望第130-134页
   ·论文工作总结第130-132页
   ·论文工作的主要创新点第132-133页
   ·论文工作展望第133-134页
致谢第134-135页
参考文献第135-143页
在学期间的研究成果第143页

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