ITO掺杂浆料及薄膜的制备工艺和性能研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
·透明导电氧化物薄膜的研究和发展概述 | 第11-21页 |
·透明导电氧化物薄膜的研究进展 | 第11页 |
·ITO的结构与透明导电机理 | 第11-13页 |
·ITO薄膜的性质 | 第13-15页 |
·ITO薄膜的制备方法 | 第15-19页 |
·ITO薄膜的应用领域 | 第19-20页 |
·前人的研究成果及发展方向 | 第20-21页 |
·本课题研究的意义及内容 | 第21-25页 |
·本课题研究的意义 | 第21-23页 |
·本课题的创新之处 | 第23页 |
·本课题的主要研究内容 | 第23页 |
·本课题的来源 | 第23-25页 |
第二章 ITO前驱物浆料的制备 | 第25-41页 |
·实验原料和仪器 | 第25-26页 |
·实验原料 | 第25-26页 |
·实验仪器 | 第26页 |
·实验原理和实验流程图 | 第26-28页 |
·实验原理 | 第26-27页 |
·实验流程图 | 第27-28页 |
·实验过程 | 第28-29页 |
·ITO前驱物浆料的表证方法 | 第29-31页 |
·稳定性分析 | 第29-30页 |
·形貌分析 | 第30页 |
·物相分析 | 第30-31页 |
·ITO前驱物浆料的性能 | 第31-40页 |
·ITO前驱物浆料的沉降实验分析 | 第31-35页 |
·ITO前驱物浆料的粘度分析 | 第35-36页 |
·ITO前驱物浆料中颗粒的形貌分析 | 第36-38页 |
·ITO前驱物浆料中粉体的XRD分析 | 第38-39页 |
·ITO前驱物浆料的TG-DTA分析 | 第39-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第三章 ITO透明导电薄膜的制备 | 第41-51页 |
·实验原料与仪器 | 第42页 |
·实验原料 | 第42页 |
·实验仪器 | 第42页 |
·实验过程 | 第42-43页 |
·衬底材料的预处理 | 第43页 |
·提拉法制备ITO透明导电薄膜 | 第43页 |
·ITO薄膜的表征方法 | 第43-44页 |
·涂敷工艺对ITO薄膜光电性能的影响 | 第44-47页 |
·基片对ITO薄膜光电性能的影响 | 第44-45页 |
·涂敷层数对ITO薄膜光电性能的影响 | 第45-47页 |
·掺杂浓度对ITO薄膜光电性能的影响 | 第47-48页 |
·本章小结 | 第48-51页 |
第四章 热处理对ITO薄膜性能的影响 | 第51-63页 |
·实验条件 | 第51-52页 |
·ITO薄膜的表征方法 | 第52-53页 |
·物相分析 | 第52页 |
·光电学性能分析 | 第52页 |
·形貌观察 | 第52页 |
·表面元素深度分布分析 | 第52-53页 |
·ITO薄膜的物相分析 | 第53-54页 |
·ITO薄膜的表面形貌分析 | 第54-56页 |
·ITO薄膜表面元素的深度分布分析 | 第56-57页 |
·热处理对ITO薄膜的光性质的影响 | 第57-59页 |
·热处理温度对ITO薄膜光性能的影响 | 第57-59页 |
·热处理时间对ITO薄膜光性能的影响 | 第59页 |
·热处理对ITO薄膜电性质的影响 | 第59-61页 |
·热处理温度对ITO薄膜电性能的影响 | 第60-61页 |
·热处理时间对ITO薄膜电性能的影响 | 第61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
第五章 结论 | 第63-65页 |
一、结论 | 第63页 |
二、不足之处与进一步工作的建议 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第70-71页 |
作者和导师简介 | 第71-72页 |
硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第72-73页 |