高压釜制备线状和网状纳米氧化硅及其光致发光
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-28页 |
| ·前言 | 第11-12页 |
| ·氧化硅纳米线的制备 | 第12-17页 |
| ·激光烧蚀法 | 第12页 |
| ·模板法 | 第12-13页 |
| ·化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| ·物理热蒸发法 | 第14-15页 |
| ·硅片刻蚀法 | 第15-17页 |
| ·溶剂热法 | 第17页 |
| ·氧化硅纳米线的生长机制 | 第17-20页 |
| ·气-液-固（VLS）机制 | 第17-19页 |
| ·类气-液-固（Based on VLS）机制 | 第19-20页 |
| ·其他机制 | 第20页 |
| ·氧化硅纳米线的性能 | 第20-25页 |
| ·发光性能 | 第20-22页 |
| ·电性能 | 第22-23页 |
| ·力学性能 | 第23-25页 |
| ·水热法及溶剂热法 | 第25-26页 |
| ·课题研究的意义、目的及研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 氧化硅纳米线的水热法制备及光致发光性能 | 第28-37页 |
| ·前言 | 第28页 |
| ·实验部分 | 第28-31页 |
| ·实验所用设备 | 第28-29页 |
| ·实验原料 | 第29页 |
| ·工艺方法 | 第29-30页 |
| ·表征设备 | 第30-31页 |
| ·实验结果及讨论 | 第31-36页 |
| ·氧化硅纳米线的形貌、成分与微结构 | 第31-33页 |
| ·氧化硅纳米线的发光性能 | 第33-35页 |
| ·其他位置产物的形貌 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 氧化硅纳米线的生长机制及特殊结构 | 第37-52页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·氧化硅纳米线的生长机制 | 第37-47页 |
| ·高温高压下超临界水的行为 | 第38-40页 |
| ·氧化硅纳米线的最佳制备条件 | 第40-44页 |
| ·氧化硅纳米线的生长过程 | 第44-47页 |
| ·氧化硅纳米线的特殊结构 | 第47-50页 |
| ·氧化硅纳米特殊结构的形貌 | 第47-48页 |
| ·氧化硅纳米特殊结构的形成过程 | 第48-50页 |
| ·氧化硅纳米鳞片结构和纳米花状结构 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第4章 溶剂热法制备网状氧化硅纳米材料和光致发光 | 第52-67页 |
| ·前言 | 第52页 |
| ·实验部分 | 第52-54页 |
| ·实验所用设备 | 第52-53页 |
| ·实验原料 | 第53页 |
| ·工艺方法 | 第53-54页 |
| ·表征设备 | 第54页 |
| ·实验结果及讨论 | 第54-65页 |
| ·网状氧化硅的形貌、成分、结构 | 第54-58页 |
| ·网状氧化硅的发光性能及影响因素 | 第58-61页 |
| ·网状氧化硅的形成过程 | 第61-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 附录（攻读学位期间所发表的学术论文目录） | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
