钢基表面磁控溅射法C/SiC双层薄膜制备研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·表面耐磨减摩涂层 | 第10-14页 |
| ·薄膜涂层材料 | 第11-13页 |
| ·薄膜摩擦学机理简介 | 第13-14页 |
| ·SiC及DLC薄膜的结构、基本性能和应用 | 第14-17页 |
| ·SiC及DLC薄膜的制备及研究进展 | 第17-20页 |
| ·SiC薄膜的制备技术及进展 | 第17-18页 |
| ·DLC薄膜的制备技术及进展 | 第18-20页 |
| ·本课题的研究目的及意义 | 第20-21页 |
| ·本课题的研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-27页 |
| ·实验设备及材料 | 第22-23页 |
| ·多功能磁控溅射设备简介 | 第22页 |
| ·溅射制备工序 | 第22-23页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·薄膜的表征 | 第23-27页 |
| ·表面形貌及成分分析 | 第23-24页 |
| ·薄膜结构的表征 | 第24页 |
| ·原子化学键合表征 | 第24页 |
| ·摩擦学性能表征 | 第24-25页 |
| ·薄膜结合力测试 | 第25-27页 |
| 第三章 C/SiC薄膜的制备 | 第27-31页 |
| ·基片的选取 | 第27-28页 |
| ·双层薄膜设计 | 第28页 |
| ·薄膜制备工艺参数 | 第28-30页 |
| ·薄膜的退火处理 | 第30-31页 |
| 第四章 薄膜的成分及结构分析 | 第31-41页 |
| ·薄膜的成分检测 | 第31-32页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第32-41页 |
| ·X射线衍射结果分析 | 第32-38页 |
| ·FTIR结果分析 | 第38-39页 |
| ·Raman结果分析 | 第39-41页 |
| 第五章 薄膜的形貌分析及生长特性 | 第41-51页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第41-45页 |
| ·退火对薄膜形貌的影响 | 第45-46页 |
| ·薄膜的生长特性 | 第46-51页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第47-48页 |
| ·SiC和C/SiC薄膜的生长 | 第48-51页 |
| 第六章 薄膜的力学性能分析 | 第51-64页 |
| ·薄膜的摩擦学性能检测 | 第51-61页 |
| ·薄膜的摩擦磨损试验 | 第51-59页 |
| ·薄膜的摩擦磨损机理 | 第59-61页 |
| ·薄膜的显微硬度分析 | 第61-64页 |
| 第七章 膜基结合力的改善 | 第64-71页 |
| ·中间层的选择原则 | 第64-65页 |
| ·中间层的作用 | 第65页 |
| ·中间层的制备 | 第65-66页 |
| ·结合力测试 | 第66-71页 |
| ·划痕试验结果分析 | 第66-68页 |
| ·中间层对结合力的改善 | 第68-69页 |
| ·摩擦磨损形貌分析 | 第69-71页 |
| 第八章 结论与展望 | 第71-73页 |
| ·主要结论 | 第71-72页 |
| ·展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第79页 |
