酞菁硅配合物的轴向修饰、表征及在光动力治疗中的应用
| 中 文 摘 要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-8页 |
| 第一章 研究概况与进展(文献综述) | 第8-21页 |
| ·光动力治疗的研究概况 | 第8-11页 |
| ·光动力治疗概述 | 第8-9页 |
| ·PDT 的作用机理 | 第9-10页 |
| ·光敏剂的研究现状 | 第10-11页 |
| ·酞菁配合物在光动力治疗中的应用 | 第11-15页 |
| ·酞菁的基本结构与谱学性质 | 第11-13页 |
| ·酞菁配合物在光动力治疗中的应用 | 第13-15页 |
| ·轴向取代酞菁硅的研究现状 | 第15-19页 |
| ·轴向取代酞菁硅 | 第15-18页 |
| ·轴向取代酞菁硅在光动力治疗方面的应用 | 第18-19页 |
| ·本学位论文的选题依据及主要工作 | 第19-21页 |
| ·选题依据和研究意义 | 第19-20页 |
| ·本论文的主要工作 | 第20-21页 |
| 第二章 轴向取代硅酞菁的合成与表征 | 第21-44页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第21-23页 |
| ·仪器 | 第21页 |
| ·药品 | 第21-23页 |
| ·合成与表征 | 第23-39页 |
| ·二氯硅酞菁的合成 | 第23-24页 |
| ·轴向取代硅酞菁的合成 | 第24-28页 |
| ·表征 | 第28-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-44页 |
| ·关于合成与表征 | 第39-43页 |
| ·关于新化合物的考证 | 第43-44页 |
| 第三章 相关物理化学性质和离体抗癌活性 | 第44-87页 |
| ·实验方法 | 第44-45页 |
| ·溶解性 | 第44页 |
| ·稳定性 | 第44-45页 |
| ·电子吸收光谱和荧光光谱 | 第45页 |
| ·光敏化实验 | 第45页 |
| ·离体抗癌活性实验 | 第45页 |
| ·修饰基团含有嘧啶环的配合物 | 第45-52页 |
| ·溶解性 | 第46-47页 |
| ·分子光谱和存在状态 | 第47-49页 |
| ·光敏化能力 | 第49页 |
| ·稳定性 | 第49-52页 |
| ·修饰基团含有哌嗪基的配合物 | 第52-57页 |
| ·溶解性 | 第52-53页 |
| ·分子光谱和存在状态 | 第53-56页 |
| ·光敏化能力 | 第56页 |
| ·稳定性 | 第56页 |
| ·离体抗癌活性实验 | 第56-57页 |
| ·修饰基团含有哌啶基及其类似物的配合物 | 第57-72页 |
| ·JSY、JSZ、JSZI、JSU 和JSS | 第58-67页 |
| ·溶解性 | 第58-59页 |
| ·分子光谱和存在状态 | 第59-64页 |
| ·光敏化能力 | 第64页 |
| ·稳定性 | 第64-67页 |
| ·JSV、JSVI、JSX 和JSW | 第67-72页 |
| ·溶解性 | 第67页 |
| ·分子光谱和存在状态 | 第67-71页 |
| ·光敏化能力 | 第71-72页 |
| ·修饰基团为羧酸衍生物的配合物 | 第72-79页 |
| ·溶解性 | 第73页 |
| ·分子光谱和存在状态 | 第73-79页 |
| ·光敏化能力 | 第79页 |
| ·修饰基团含有酰胺基的配合物 | 第79-82页 |
| ·溶解性 | 第80页 |
| ·分子光谱和存在状态 | 第80-82页 |
| ·光敏化能力 | 第82页 |
| ·修饰基团含有金刚烷或冠醚的配合物 | 第82-87页 |
| ·溶解性 | 第83-84页 |
| ·分子光谱和存在状态 | 第84-86页 |
| ·光敏化能力 | 第86-87页 |
| 第四章 总结与展望 | 第87-92页 |
| 参考文献 | 第92-98页 |
| 附录 | 第98-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
| 在读期间发表论文 | 第106-107页 |
| 个人简历 | 第107页 |
