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磁控溅射TiN及ZrN薄膜的特性研究

中文摘要第1-6页
英文摘要第6-10页
1 绪论第10-24页
   ·国内外研究现状第11-13页
   ·常用的薄膜制备工艺第13-18页
     ·溅射沉积第13-15页
     ·离子镀第15-16页
     ·离子束增强沉积第16页
     ·化学气相沉积第16-17页
     ·其它沉积方法第17-18页
   ·应用第18-22页
     ·在机械领域的应用第18-19页
     ·在仿金行业的应用第19页
     ·在建筑装饰行业的应用第19-20页
     ·在半导体行业的应用第20-21页
     ·在临床医学领域的应用第21页
     ·在传媒介质的应用第21页
     ·其它方面的应用第21-22页
   ·目前存在的问题第22页
   ·本课题研究的目的及意义第22-24页
2 溅射镀膜原理第24-28页
   ·溅射机理及特点第24-25页
   ·基本溅射类型第25-28页
     ·直流溅射第25-26页
     ·射频溅射第26页
     ·反应溅射第26-27页
     ·磁控溅射第27-28页
3 实验第28-31页
   ·实验设备及材料第28页
   ·基片前处理第28-29页
   ·薄膜的制备第29-30页
   ·薄膜的性能测试第30-31页
4 氮化钛薄膜的性能和结构研究第31-46页
   ·工艺参数对氮化钛薄膜机械性能和结构的影响第31-39页
     ·氮分量对氮化钛薄膜机械性能和结构的影响第31-34页
     ·负偏压对氮化钛薄膜机械结构和性能的影响第34-35页
     ·功率对氮化钛薄膜性能的影响第35-36页
     ·其他溅射因素对氮化钛薄膜机械性能的影响第36-37页
     ·氮化钛薄膜表面形貌分析第37-39页
   ·氮流量对氮化钛薄膜光学性能的影响第39-46页
     ·氮流量对氮化钛薄膜光学性能的影响第40-43页
     ·氮化钛薄膜电子结构分析第43-46页
5 (Ti,Zr)N 薄膜制备及性能研究第46-55页
   ·掺杂方式对(Ti,Zr)N 薄膜性能的影响第46-47页
   ·相对掺杂量对(Ti,Zr)N 薄膜性能的影响第47-49页
   ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜的性能和结构研究第49-53页
     ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜光学性能分析第49页
     ·X 射线衍射分析第49-50页
     ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜的表面形貌第50-51页
     ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜的能带结构第51-52页
     ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜显微硬度第52-53页
     ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜耐腐蚀性能第53页
   ·本章小结第53-55页
6 透明氮化锆薄膜的制备及性能研究第55-62页
   ·氮化锆薄膜的可见光透射率分析第56页
   ·氮化锆薄膜的表面形貌分析第56-58页
   ·氮化锆薄膜电子结构分析第58页
   ·氮化锆薄膜显微硬度第58-59页
   ·氮化锆薄膜耐腐蚀性能第59页
   ·氮化锆薄膜光电子能谱分析第59-61页
   ·本章小结第61-62页
7 结论第62-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-70页
附录第70-71页
独创性声明第71页
学位论文版权使用授权书第71页

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