磁控溅射TiN及ZrN薄膜的特性研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-13页 |
| ·常用的薄膜制备工艺 | 第13-18页 |
| ·溅射沉积 | 第13-15页 |
| ·离子镀 | 第15-16页 |
| ·离子束增强沉积 | 第16页 |
| ·化学气相沉积 | 第16-17页 |
| ·其它沉积方法 | 第17-18页 |
| ·应用 | 第18-22页 |
| ·在机械领域的应用 | 第18-19页 |
| ·在仿金行业的应用 | 第19页 |
| ·在建筑装饰行业的应用 | 第19-20页 |
| ·在半导体行业的应用 | 第20-21页 |
| ·在临床医学领域的应用 | 第21页 |
| ·在传媒介质的应用 | 第21页 |
| ·其它方面的应用 | 第21-22页 |
| ·目前存在的问题 | 第22页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第22-24页 |
| 2 溅射镀膜原理 | 第24-28页 |
| ·溅射机理及特点 | 第24-25页 |
| ·基本溅射类型 | 第25-28页 |
| ·直流溅射 | 第25-26页 |
| ·射频溅射 | 第26页 |
| ·反应溅射 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射 | 第27-28页 |
| 3 实验 | 第28-31页 |
| ·实验设备及材料 | 第28页 |
| ·基片前处理 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第30-31页 |
| 4 氮化钛薄膜的性能和结构研究 | 第31-46页 |
| ·工艺参数对氮化钛薄膜机械性能和结构的影响 | 第31-39页 |
| ·氮分量对氮化钛薄膜机械性能和结构的影响 | 第31-34页 |
| ·负偏压对氮化钛薄膜机械结构和性能的影响 | 第34-35页 |
| ·功率对氮化钛薄膜性能的影响 | 第35-36页 |
| ·其他溅射因素对氮化钛薄膜机械性能的影响 | 第36-37页 |
| ·氮化钛薄膜表面形貌分析 | 第37-39页 |
| ·氮流量对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第39-46页 |
| ·氮流量对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第40-43页 |
| ·氮化钛薄膜电子结构分析 | 第43-46页 |
| 5 (Ti,Zr)N 薄膜制备及性能研究 | 第46-55页 |
| ·掺杂方式对(Ti,Zr)N 薄膜性能的影响 | 第46-47页 |
| ·相对掺杂量对(Ti,Zr)N 薄膜性能的影响 | 第47-49页 |
| ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜的性能和结构研究 | 第49-53页 |
| ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜光学性能分析 | 第49页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第49-50页 |
| ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜的表面形貌 | 第50-51页 |
| ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜的能带结构 | 第51-52页 |
| ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜显微硬度 | 第52-53页 |
| ·金黄色(Ti,Zr)N 薄膜耐腐蚀性能 | 第53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 6 透明氮化锆薄膜的制备及性能研究 | 第55-62页 |
| ·氮化锆薄膜的可见光透射率分析 | 第56页 |
| ·氮化锆薄膜的表面形貌分析 | 第56-58页 |
| ·氮化锆薄膜电子结构分析 | 第58页 |
| ·氮化锆薄膜显微硬度 | 第58-59页 |
| ·氮化锆薄膜耐腐蚀性能 | 第59页 |
| ·氮化锆薄膜光电子能谱分析 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 7 结论 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 附录 | 第70-71页 |
| 独创性声明 | 第71页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第71页 |
