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XeCl激光器的改进及PLD中光学实时探测与表征研究

目录第1-6页
摘要第6-7页
Abstract第7-8页
第一章 引言第8-12页
 §1.1 准分子激光第8-10页
 §1.2 电磁场影响下的PLD第10-11页
 §1.3 待解决的问题第11-12页
第二章 XeCl准分子激光器工作原理及性能改进第12-28页
 §2.1 XeCl准分子激光器原理第12-19页
  §2.1.1 准分子激光理论第12-15页
  §2.1.2 脉冲放电过程及特点第15-19页
   §2.1.2.1 气体放电的基本过程第15-17页
   §2.1.2.2 辉光放电基本过程第17页
   §2.1.2.3 气体火花开关工作过程第17-18页
   §2.1.2.4 紫外预电离原理第18-19页
 §2.2 XeCl准分子激光器结构第19-21页
  §2.2.1、基本结构第19-20页
  §2.2.2 火花开关对获得短脉冲的影响第20-21页
 §2.3 激光器火花开关控制电路及其优化第21-25页
  §2.3.1 激光器火花开关控制电路第21-23页
  §2.3.2 激光器电路优化第23-25页
   §2.3.2.1 针对控制电路工作不稳定的优化第23-24页
   §2.3.2.2 针对放电瞬间产生的强电磁干扰的优化措施第24-25页
 §2.4 XeCl准分子激光器参数测量第25-27页
  §2.4.1 闸流管触发信号测量第25页
  §2.4.2 火花开关放电信号测量第25-26页
  §2.4.3 放电电极测量第26-27页
 §2.5 本章结论第27-28页
第三章 电磁场影响下的PLD过程中等离子体性质研究第28-49页
 §3.1 激光与固体的作用及等离子体产生的机理第28-31页
 §3.2 激光等离子体空间分布的理论模型及其数学描述第31-43页
  §3.2.1 模型的理论基础第32-33页
  §3.2.2 模型的基本假设第33-34页
  §3.2.3 理论模型第34-39页
  §3.2.4 电磁场影响下的PLD过程中等离子体基本粒子模型第39-43页
   §3.2.4.1 均匀稳恒磁场第40-42页
   §3.2.4.2 均匀稳恒电场第42-43页
 §3.3 实验及数据分析第43-48页
  §3.3.1 激光与固体作用产生的等离子体的激光透射分析第43-46页
  §3.3.2 磁场、电场影响下的等离子体的激光透射分析第46-48页
 §3.4 本章小结第48-49页
第四章 磁场影响下的La_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3薄膜制备及性质分析第49-75页
 §4.1 钙钛矿锰氧化物特大磁电阻(CMR)材料的性质及机理第49-59页
  §4.1.1 磁电阻效应第49-52页
   §4.1.1.1 正常磁电阻效应(OMR)第49-50页
   §4.1.1.2 多层膜和颗粒膜中的巨磁电阻效应(GMR)第50页
   §4.1.1.3 钙钛矿锰氧化物中的特大磁电阻效应(CMR)第50-52页
  §4.1.2 钙钛矿锰氧化合物的结构第52-59页
   §4.1.2.1 杨-特勒效应/相变第52-54页
   §4.1.2.2 晶体结构第54-55页
   §4.1.2.3 磁结构第55-57页
   §4.1.2.4 电子结构第57-59页
   §4.1.2.5 导电性能第59页
 §4.2 电磁场影响下的La_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3薄膜制备第59-62页
 §4.3 试验及分析第62-73页
  §4.3.1 试验说明第62-64页
  §4.3.2 薄膜表面形状金相分析第64-66页
  §4.3.2 扫描电镜电子能谱分析第66-67页
  §4.3.3 X射线分析第67-69页
  §4.3.4 原子力分析第69-72页
   §4.3.4.1 3D表面形状第69-70页
   §4.3.4.2 颗粒度分析第70-71页
   §4.3.4.3 横截面分析第71-72页
  §4.3.5 薄膜的电阻-温度特性测试第72-73页
 §4.4 小结第73-75页
第五章 结论及展望第75-77页
 §5.1 结论第75-76页
 §5.2 展望第76-77页
参考文献第77-81页
学位期间发表的论文第81-82页
致谢第82-83页

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