目录 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 引言 | 第8-12页 |
§1.1 准分子激光 | 第8-10页 |
§1.2 电磁场影响下的PLD | 第10-11页 |
§1.3 待解决的问题 | 第11-12页 |
第二章 XeCl准分子激光器工作原理及性能改进 | 第12-28页 |
§2.1 XeCl准分子激光器原理 | 第12-19页 |
§2.1.1 准分子激光理论 | 第12-15页 |
§2.1.2 脉冲放电过程及特点 | 第15-19页 |
§2.1.2.1 气体放电的基本过程 | 第15-17页 |
§2.1.2.2 辉光放电基本过程 | 第17页 |
§2.1.2.3 气体火花开关工作过程 | 第17-18页 |
§2.1.2.4 紫外预电离原理 | 第18-19页 |
§2.2 XeCl准分子激光器结构 | 第19-21页 |
§2.2.1、基本结构 | 第19-20页 |
§2.2.2 火花开关对获得短脉冲的影响 | 第20-21页 |
§2.3 激光器火花开关控制电路及其优化 | 第21-25页 |
§2.3.1 激光器火花开关控制电路 | 第21-23页 |
§2.3.2 激光器电路优化 | 第23-25页 |
§2.3.2.1 针对控制电路工作不稳定的优化 | 第23-24页 |
§2.3.2.2 针对放电瞬间产生的强电磁干扰的优化措施 | 第24-25页 |
§2.4 XeCl准分子激光器参数测量 | 第25-27页 |
§2.4.1 闸流管触发信号测量 | 第25页 |
§2.4.2 火花开关放电信号测量 | 第25-26页 |
§2.4.3 放电电极测量 | 第26-27页 |
§2.5 本章结论 | 第27-28页 |
第三章 电磁场影响下的PLD过程中等离子体性质研究 | 第28-49页 |
§3.1 激光与固体的作用及等离子体产生的机理 | 第28-31页 |
§3.2 激光等离子体空间分布的理论模型及其数学描述 | 第31-43页 |
§3.2.1 模型的理论基础 | 第32-33页 |
§3.2.2 模型的基本假设 | 第33-34页 |
§3.2.3 理论模型 | 第34-39页 |
§3.2.4 电磁场影响下的PLD过程中等离子体基本粒子模型 | 第39-43页 |
§3.2.4.1 均匀稳恒磁场 | 第40-42页 |
§3.2.4.2 均匀稳恒电场 | 第42-43页 |
§3.3 实验及数据分析 | 第43-48页 |
§3.3.1 激光与固体作用产生的等离子体的激光透射分析 | 第43-46页 |
§3.3.2 磁场、电场影响下的等离子体的激光透射分析 | 第46-48页 |
§3.4 本章小结 | 第48-49页 |
第四章 磁场影响下的La_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3薄膜制备及性质分析 | 第49-75页 |
§4.1 钙钛矿锰氧化物特大磁电阻(CMR)材料的性质及机理 | 第49-59页 |
§4.1.1 磁电阻效应 | 第49-52页 |
§4.1.1.1 正常磁电阻效应(OMR) | 第49-50页 |
§4.1.1.2 多层膜和颗粒膜中的巨磁电阻效应(GMR) | 第50页 |
§4.1.1.3 钙钛矿锰氧化物中的特大磁电阻效应(CMR) | 第50-52页 |
§4.1.2 钙钛矿锰氧化合物的结构 | 第52-59页 |
§4.1.2.1 杨-特勒效应/相变 | 第52-54页 |
§4.1.2.2 晶体结构 | 第54-55页 |
§4.1.2.3 磁结构 | 第55-57页 |
§4.1.2.4 电子结构 | 第57-59页 |
§4.1.2.5 导电性能 | 第59页 |
§4.2 电磁场影响下的La_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3薄膜制备 | 第59-62页 |
§4.3 试验及分析 | 第62-73页 |
§4.3.1 试验说明 | 第62-64页 |
§4.3.2 薄膜表面形状金相分析 | 第64-66页 |
§4.3.2 扫描电镜电子能谱分析 | 第66-67页 |
§4.3.3 X射线分析 | 第67-69页 |
§4.3.4 原子力分析 | 第69-72页 |
§4.3.4.1 3D表面形状 | 第69-70页 |
§4.3.4.2 颗粒度分析 | 第70-71页 |
§4.3.4.3 横截面分析 | 第71-72页 |
§4.3.5 薄膜的电阻-温度特性测试 | 第72-73页 |
§4.4 小结 | 第73-75页 |
第五章 结论及展望 | 第75-77页 |
§5.1 结论 | 第75-76页 |
§5.2 展望 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
学位期间发表的论文 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |