| 第一章 引 言 | 第1-12页 |
| ·ZnO材料的基本性质 | 第6-7页 |
| ·ZnO材料的研究进展 | 第7-11页 |
| ·本论文的主要工作 | 第11-12页 |
| 第二章 生长及表征设备简介 | 第12-22页 |
| ·电子束蒸发设备的原理和结构 | 第12-16页 |
| ·热退火装置的结构 | 第16-18页 |
| ·X射线衍射的原理 | 第18-19页 |
| ·微区光致发光光谱仪的结构 | 第19-20页 |
| ·透射反射谱的测试原理 | 第20-22页 |
| 第三章 氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜 | 第22-29页 |
| ·实验过程 | 第22页 |
| ·实验结果和讨论 | 第22-28页 |
| ·结论 | 第28-29页 |
| 第四章 ZnS和Mn钝化的ZnO:S薄膜的制备及性质研究 | 第29-40页 |
| ·改变氧和氩等离子辅助束流对ZnS薄膜性质的影响 | 第29-33页 |
| ·样品的制备 | 第29-30页 |
| ·结构及性质分析 | 第30-33页 |
| ·总结 | 第33页 |
| ·Mn钝化的纳米ZnO:S薄膜的结构和光学性质 | 第33-40页 |
| ·实验过程 | 第34页 |
| ·实验结果和讨论 | 第34-39页 |
| ·结论 | 第39-40页 |
| 第五章 结论 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 致谢 | 第46页 |