纳米晶金刚石薄膜场致发射特性研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-14页 |
| 1．1 场致发射与冷阴极 | 第7-10页 |
| 1．2 金刚石薄膜的特性 | 第10-11页 |
| 1．3 金刚石薄膜的国际国内研究动态 | 第11-12页 |
| 1．4 课题背景及论文组织结构 | 第12-14页 |
| 第二章 金刚石薄膜理论分析 | 第14-23页 |
| 2．1 常见的金刚石薄膜低气压沉积反应理论 | 第14-16页 |
| 2．2 金刚石低压气相生长的非平衡热力学耦合理论 | 第16-20页 |
| 2．3 金刚石薄膜的发射机理 | 第20-23页 |
| 第三章 实验系统 | 第23-36页 |
| 3．1 流行的制备金刚石薄膜的CVD工艺方法 | 第23-25页 |
| 3．2 MPCVD法的反应机理 | 第25-27页 |
| 3．3 金刚石薄膜沉积系统 | 第27-33页 |
| 3．4 金刚石薄膜发射特性测试系统 | 第33-34页 |
| 3．5 金刚石薄膜的分析、鉴定方法 | 第34-36页 |
| 第四章 实验关键步骤处理及实验结果分析 | 第36-57页 |
| 4．1 成核技术的选用 | 第36-40页 |
| 4．2 CH_4/H_2反应气源成分比的确定 | 第40-43页 |
| 4．3 微波功率因素的影响 | 第43-47页 |
| 4．4 等离子体球的位置效应 | 第47-50页 |
| 4．5 时间因素对金刚石薄膜沉积的影响 | 第50-52页 |
| 4．6 金刚石薄膜的发射特性测试 | 第52-55页 |
| 4．7 结论 | 第55-57页 |
| 第五章 结束语 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
