| 提要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 符号表 | 第6-11页 |
| 第一章、前言及研究现状 | 第11-20页 |
| 1．1 熔体中晶体生长技术简介 | 第11-14页 |
| 1．2 传热传质和流动对晶体生长的影响 | 第14-15页 |
| 1．3 国内外研究现状 | 第15-19页 |
| 1．4 本文的任务 | 第19-20页 |
| 第二章、物理模型与数值方法 | 第20-42页 |
| 2．1 熔体和晶体的简化模型 | 第20-26页 |
| 2．2 晶体生长的整体模型 | 第26-34页 |
| 2．3 数值方法 | 第34-40页 |
| 2．4 小结 | 第40-42页 |
| 第三章、晶体的传热对于相变面形状的影响 | 第42-50页 |
| 3．1 数值模拟与解析解 | 第42-45页 |
| 3．2 晶体的传热对相变面形状的影响 | 第45-48页 |
| 3．3 小结 | 第48-50页 |
| 第四章、熔体的传热与流动及对相变面形状的影响分析 | 第50-69页 |
| 4．1 熔体中各种驱动流及对相变面形状的影响 | 第51-57页 |
| 4．2 熔体的混合对流分析 | 第57-60页 |
| 4．3 晶体和坩埚的旋转对自然对流的抑制作用分析 | 第60-68页 |
| 4．4 小结 | 第68-69页 |
| 第五章、熔体热驱动流的稳定性研究 | 第69-86页 |
| 5．1 熔体浮升力热驱动流的对流稳定性研究 | 第69-80页 |
| 5．2 熔体表面张力热驱动流及对流稳定性研究 | 第80-85页 |
| 5．3 小结 | 第85-86页 |
| 第六章、晶体生长过程的动态数值计算 | 第86-96页 |
| 6．1 晶体生长过程数值分析的意义 | 第86页 |
| 6．2 准静态过程分析与瞬态过程分析 | 第86-89页 |
| 6．3 算例及讨论 | 第89-94页 |
| 6．4 实际晶体生长炉的改进 | 第94-95页 |
| 6．5 小结 | 第95-96页 |
| 第七章、熔体的传热与流动的初步实验研究 | 第96-115页 |
| 7．1实验装置 | 第96-98页 |
| 7．2 熔体的冷态试验 | 第98-103页 |
| 7．3 熔体的热态试验 | 第103-108页 |
| 7．4 对Ozoe的熔体对流不稳定性试验的数值模拟 | 第108-114页 |
| 7．5 小结 | 第114-115页 |
| 第八章、成果与结论 | 第115-118页 |
| 8．1 成果 | 第115-116页 |
| 8．2 结论 | 第116-117页 |
| 8．3 今后工作 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 参考文献 | 第119-128页 |