| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1.序论 | 第9-16页 |
| ·选题意义 | 第9-10页 |
| ·SiCN薄膜的研究概况 | 第10-13页 |
| ·SiCN研究的发展过程 | 第10-11页 |
| ·SiCN与SiC和Si_3N_4的性能比较 | 第11-13页 |
| ·SiCN薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| ·化学气相沉积(CVD)法 | 第13-14页 |
| ·物理气相沉积(PVD)法 | 第14-15页 |
| ·微波-ECR等离子体源离子注入的主要特点 | 第15页 |
| ·本论文的主要内容 | 第15-16页 |
| 2.SiCN薄膜的制备及表征 | 第16-24页 |
| ·沉积系统介绍 | 第16-17页 |
| ·系统结构 | 第16-17页 |
| ·系统主要特点 | 第17页 |
| ·SiCN薄膜沉积实验过程 | 第17-18页 |
| ·基底的前处理 | 第17-18页 |
| ·SiCN薄膜的沉积过程 | 第18页 |
| ·SiCN薄膜的分析测试方法 | 第18-23页 |
| ·傅立叶变换红外吸收光谱(FT-IR) | 第18-19页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第19-20页 |
| ·薄膜硬度 | 第20-21页 |
| ·薄膜厚度 | 第21页 |
| ·表面形貌 | 第21页 |
| ·光学性能 | 第21-22页 |
| ·摩擦学性能 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 3.Si靶溅射功率对薄膜结构和性能的影响 | 第24-36页 |
| ·FT-IR结果分析 | 第24-26页 |
| ·XPS结果分析 | 第26-29页 |
| ·腐蚀实验 | 第29-30页 |
| ·薄膜生长速率 | 第30-31页 |
| ·硬度 | 第31-32页 |
| ·折射率 | 第32-33页 |
| ·摩擦学性能 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 4 N_2流量与Si靶溅射功率共同对薄膜结构、性能的影响 | 第36-44页 |
| ·FT-IR结果分析 | 第36-37页 |
| ·XPS结果分析 | 第37-39页 |
| ·薄膜生长率 | 第39-40页 |
| ·薄膜硬度 | 第40-41页 |
| ·摩擦系数 | 第41-42页 |
| ·光学性能 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |