| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 概述 | 第9-15页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| ·二氧化钒薄膜的相变性质及其应用 | 第10-12页 |
| ·二氧化钒薄膜用于热致变色智能窗玻璃的研究进展 | 第12-13页 |
| ·本论文研究的意义和目的 | 第13-14页 |
| ·本章小结 | 第14-15页 |
| 第2章 二氧化钒的基本性质及其薄膜制备工艺 | 第15-27页 |
| ·钒的性质 | 第15-17页 |
| ·钒的发现历史及储量 | 第15-16页 |
| ·钒的主要物理化学性质 | 第16-17页 |
| ·钒氧化合物及其性质 | 第17-20页 |
| ·二氧化钒的物理化学性质 | 第20-22页 |
| ·二氧化钒的主要物理化学性质 | 第20页 |
| ·二氧化钒两相的晶体结构 | 第20-21页 |
| ·二氧化钒两相的能带变化 | 第21-22页 |
| ·二氧化钒薄膜相变前后光电性能的转换 | 第22-24页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备技术 | 第24-26页 |
| ·真空蒸镀法 | 第24页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第24-25页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第25页 |
| ·磁控溅射法 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 薄膜的理论基础 | 第27-32页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第27-29页 |
| ·气相离子的吸附 | 第27-28页 |
| ·薄膜的形成 | 第28-29页 |
| ·薄膜的结构和缺陷 | 第29-31页 |
| ·薄膜的晶体结构分析 | 第30-31页 |
| ·薄膜的缺陷 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 二氧化钒热致变色薄膜的制备及表征方法 | 第32-37页 |
| ·靶材的选购 | 第32页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第32页 |
| ·实验的主要装置 | 第32-34页 |
| ·溅射镀膜设备 | 第32-33页 |
| ·气氛退火装置 | 第33-34页 |
| ·制备二氧化钒薄膜的工艺流程 | 第34-35页 |
| ·薄膜试样的结构和性能表征方法 | 第35-36页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第35页 |
| ·薄膜成分的测定 | 第35页 |
| ·薄膜结构的测定 | 第35-36页 |
| ·电学性能测试 | 第36页 |
| ·光学性能测试 | 第36页 |
| ·中红外反射率测试 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第5章 工艺参数对薄膜结构和性能的影响 | 第37-57页 |
| ·氧气分压对薄膜性能的影响 | 第37-47页 |
| ·氧分压对溅射沉积速率的影响 | 第37-39页 |
| ·氧分压对薄膜电学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·氧分压对薄膜成分的影响 | 第42-46页 |
| ·氧分压对薄膜光学带隙的影响 | 第46-47页 |
| ·热处理对薄膜结构及性能的影响 | 第47-56页 |
| ·热处理气氛的选择及方案的确定 | 第47-48页 |
| ·氧化钒薄膜热处理过程中SiO_2阻挡层的作用及制备 | 第48-52页 |
| ·结果讨论与分析 | 第52-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第6章 相变型VO_2热致变色薄膜的制备及其性能表征 | 第57-68页 |
| ·VO_2热致变色薄膜的制备 | 第57页 |
| ·最佳氧气分压的确定 | 第57-59页 |
| ·实验结果分析及性能表征 | 第59-67页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第59-61页 |
| ·薄膜的形貌分析 | 第61-62页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第62-64页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第64-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第7章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第75页 |