| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-32页 |
| ·研究背景 | 第11-17页 |
| ·高温超导材料概述 | 第11-13页 |
| ·高温超导材料重要特性 | 第13-14页 |
| ·高温超导体中临界电流密度的分布特点 | 第14-17页 |
| ·研究现状 | 第17-29页 |
| ·磁通跳跃研究现状 | 第17-23页 |
| ·交流损耗研究现状 | 第23-28页 |
| ·已有研究工作中存在的问题 | 第28-29页 |
| ·本文的主要工作 | 第29-32页 |
| 第二章 高温超导体磁通跳跃和交流损耗的基本理论和计算方法 | 第32-60页 |
| ·高温超导体磁通跳跃的基本理论和计算方法 | 第32-48页 |
| ·高温超导体磁通跳跃研究现状概述 | 第32-33页 |
| ·基于Bean模型的磁通跳跃分析 | 第33-36页 |
| ·考虑磁通蠕动效应的磁通跳跃理论 | 第36-39页 |
| ·基于超导磁热扩散方程的数值模拟 | 第39-48页 |
| ·高温超导体交流损耗的基本理论和计算方法 | 第48-58页 |
| ·交流损耗的分类与产生机制 | 第48-49页 |
| ·交流损耗的测量方法 | 第49-50页 |
| ·减小交流损耗的方法 | 第50-51页 |
| ·交流损耗的各向异性特性 | 第51-52页 |
| ·交流损耗随应力-应变的变化特性 | 第52-53页 |
| ·交流损耗的基本计算方法 | 第53-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第三章 高温超导体中磁通跳跃的临界电流密度非均匀分布效应 | 第60-82页 |
| ·临界电流密度非均匀分布模型研究概述 | 第60-63页 |
| ·基于Kim模型的磁通跳跃理论 | 第63-68页 |
| ·基于Kim模型的超导临界态理论 | 第63-66页 |
| ·磁通跳跃、磁热不稳定性判据以及磁滞回线的一般描述 | 第66-68页 |
| ·改进的磁通跳跃描述理论 | 第68-80页 |
| ·同时考虑温度和外加磁场变化速度影响的磁通跳跃描述 | 第69-71页 |
| ·磁通跳跃与超导体热量分布及温度响应之间的关系 | 第71-72页 |
| ·改进的M(u|¨)ller与Andrikidis的模型 | 第72-80页 |
| ·小结 | 第80-82页 |
| 第四章 高温超导圆柱体线材中传输交流损耗的临界电流密度非均匀分布效应 | 第82-102页 |
| ·临界电流密度非均匀分布效应与交流损耗关系的研究概述 | 第82-84页 |
| ·临界电流密度阶梯状非均匀分布方式对传输损耗的影响 | 第84-91页 |
| ·基本方程 | 第84-88页 |
| ·计算结果及讨论 | 第88-91页 |
| ·多种临界电流密度非均匀分布方式对传输损耗的影响 | 第91-100页 |
| ·模型的建立 | 第91-92页 |
| ·传输交流损耗的解析表述 | 第92-93页 |
| ·计算结果及讨论 | 第93-100页 |
| ·小结 | 第100-102页 |
| 第五章 高温超导薄膜中交流损耗的临界电流密度非均匀分布效应 | 第102-117页 |
| ·高温超导薄膜的研究意义和制备方法 | 第102-103页 |
| ·在外加磁场和传输电流时超导薄膜中电流密度和磁场的响应 | 第103-112页 |
| ·基本理论框架 | 第104-106页 |
| ·在外加磁场下超导薄膜电流密度和磁场的响应 | 第106-108页 |
| ·在传输电流时超导薄膜电流密度和磁场的响应 | 第108-109页 |
| ·计算结果及讨论 | 第109-112页 |
| ·高温超导薄膜交流损耗的临界电流密度非均匀分布效应 | 第112-116页 |
| ·薄膜传输损耗的临界电流密度非均匀分布效应 | 第112-113页 |
| ·薄膜磁化损耗的临界电流密度非均匀分布效应 | 第113-114页 |
| ·计算结果及讨论 | 第114-116页 |
| ·小结 | 第116-117页 |
| 第六章 结束语 | 第117-121页 |
| 参考文献 | 第121-132页 |
| 个人简介、在学期间发表的学术论文 | 第132-133页 |
| 致谢 | 第133页 |
