等离子体沉积相关技术在制备纳米结构碳氮薄膜上的应用
| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-12页 |
| 第一章 引言 | 第12-20页 |
| ·等离子体相关技术制备纳米结构薄膜的背景 | 第12-14页 |
| ·纳米结构碳氮材料 | 第14-15页 |
| ·碳氮薄膜材料 | 第15-16页 |
| ·本文的内容与总体结构 | 第16页 |
| 参考文献 | 第16-20页 |
| 第二章 等离子体相关薄膜制备技术 | 第20-33页 |
| ·氮等离子体和原子束的产生 | 第20-22页 |
| ·等离子体反应气相沉积技术 | 第22-27页 |
| ·活性等离子体纳米制备的基本特征 | 第22-23页 |
| ·活性等离子体中建造单元的产生 | 第23-24页 |
| ·等离子体鞘层 | 第24-26页 |
| ·活性等离子体在纳米薄膜制备上的优点 | 第26-27页 |
| ·衬底与催化层 | 第27页 |
| ·原子束辅助脉冲激光烧蚀沉积技术(PLD) | 第27-30页 |
| 参考文献 | 第30-33页 |
| 第三章 氮气/甲烷混合气体辉光放电发射光谱的研究 | 第33-49页 |
| ·气体放电的定义及基本过程 | 第33-35页 |
| ·辉光放电产生装置及实验细节 | 第35-37页 |
| ·光谱测量结果与分析 | 第37-45页 |
| ·整体发射光谱 | 第37-40页 |
| ·CN基团的形成 | 第40页 |
| ·CN,N_2~+,与N_2的趋势 | 第40-43页 |
| ·C_2分子 | 第43-44页 |
| ·综合分析及讨论 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 第四章 碳氮纳米结构薄膜制备 | 第49-77页 |
| ·引言 | 第49-52页 |
| ·实验装置改进和纳米结构薄膜制备 | 第52-53页 |
| ·碳氮纳米结构薄膜的制备及表征 | 第53-72页 |
| ·碳氮纳米结构的形貌 | 第54-61页 |
| ·碳氮纳米结构的结构与组分 | 第61-70页 |
| ·定向排列碳氮纳米结构的生长机理 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 第五章 碳氮薄膜制备 | 第77-100页 |
| ·引言 | 第77-79页 |
| ·实验装置与薄膜制备 | 第79-82页 |
| ·等离子体束淀积 | 第79-80页 |
| ·原子束辅助准分子PLD | 第80-82页 |
| ·膜层表征与结果分析 | 第82-96页 |
| ·等离子束淀积方法制备碳氮薄膜 | 第82-90页 |
| ·原子束辅助准分子PLD制备碳氮薄膜 | 第90-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-100页 |
| 第六章 总结与展望 | 第100-103页 |
| 后记 | 第103-104页 |
| 致谢 | 第104-105页 |
