| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| §1.1 掺铒薄膜的研究现状 | 第8-10页 |
| §1.2 本文研究重点和文章结构 | 第10-12页 |
| §1.3 稀土元素铒的光谱理论 | 第12-17页 |
| §1.3.1 铒元素的电子层结构和能级 | 第12-13页 |
| §1.3.2 Er~(3+)的受激吸收、受激发射、自发辐射和非辐射跃迁 | 第13-15页 |
| §1.3.3 Er~(3+)之间的能量传递机制 | 第15-17页 |
| §1.3.4 Er~(3+)与声子的能量传递 | 第17页 |
| §1.4 掺铒薄膜的制备工艺及测试系统 | 第17-23页 |
| §1.4.1 射频磁控溅射技术 | 第18页 |
| §1.4.2 脉冲激光沉积(PLD)及离子注入法 | 第18-20页 |
| §1.4.3 溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第20-21页 |
| §1.4.4 等离子体辅助化学气相沉积(PECVD) | 第21页 |
| §1.4.5 光致发光谱(Photolumicescence Spectroscopy) | 第21-22页 |
| §1.4.6 光致发光激发谱(PLE) | 第22-23页 |
| 第二章 掺铒氧化铪(HfO_2)薄膜材料的研究 | 第23-33页 |
| §2.1 掺铒HfO_2薄膜样品的制备和结构表征 | 第23-24页 |
| §2.2 掺铒HfO_2薄膜样品的发光特性及发光机理的讨论 | 第24-32页 |
| §2.2.1 室温PL的分析与讨论 | 第24-28页 |
| §2.2.2 变温PL的分析与讨论 | 第28-29页 |
| §2.2.3 发光机制的研究 | 第29-32页 |
| §2.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 铒铥共掺氧化铝薄膜材料的研究 | 第33-42页 |
| §3.1 铒铥共掺Al_2O_3薄膜材料的制备 | 第33-34页 |
| §3.2 发光特性及铒铥能量传递机制的讨论 | 第34-41页 |
| §3.2.1 退火温度对PL的影响 | 第34-35页 |
| §3.2.2 室温PL的分析与讨论 | 第35-38页 |
| §3.2.3 变温PL的分析与能量传递机制的讨论 | 第38-41页 |
| §3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 掺铒富硅氧化铝薄膜材料的研究 | 第42-48页 |
| §4.1 样品制备及实验条件 | 第42-43页 |
| §4.2 实验结果及讨论 | 第43-46页 |
| §4.2.1 退火温度对发光强度的影响 | 第43-44页 |
| §4.2.2 纳米硅作为感光剂 | 第44-45页 |
| §4.2.3 多层膜与单层膜的比较 | 第45页 |
| §4.2.4 变温PL谱的研究 | 第45-46页 |
| §4.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 全文总结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 致谢 | 第54-56页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文 | 第56-57页 |
