| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-18页 |
| ·高温超导体及其应用简介 | 第7-8页 |
| ·高温超导体简介 | 第7-8页 |
| ·高温超导体的应用 | 第8页 |
| ·YBa_2Cu_3O_7涂层导体及其缓冲层 | 第8-12页 |
| ·YBa_2Cu_3O_7 涂层导体简介 | 第8-9页 |
| ·缓冲层介绍 | 第9-11页 |
| ·YBa_2Cu_3O_7 涂层导体制备方法 | 第11页 |
| ·RABITS工艺介绍 | 第11页 |
| ·倾斜基板工艺介绍 | 第11-12页 |
| ·离子束辅助沉积（IBAD）及其原理和应用 | 第12-14页 |
| ·IBAD工艺过程 | 第12-13页 |
| ·IBAD工艺制备涂层导体的研究进展 | 第13-14页 |
| ·IBAD薄膜生长机制的研究 | 第14-17页 |
| ·本文内容简介 | 第17-18页 |
| 第2章 实验的原理与制备简介 | 第18-26页 |
| ·离子束辅助溅射沉积设备简介 | 第18-22页 |
| ·样品测试设备的原理 | 第22-26页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第22-24页 |
| ·原子力显微镜 | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第25页 |
| ·台阶仪 | 第25-26页 |
| 第3章 采用 IBAD 方法制备 YSZ 缓冲层的研究 | 第26-37页 |
| ·IBAD 方法制备YSZ 缓冲层的优化研究 | 第26-31页 |
| ·实验 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| ·辅助束流密度Ja对薄膜结构影响 | 第31-37页 |
| ·实验 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-35页 |
| ·小结 | 第35-37页 |
| 第4章 YSZ 缓冲层的取向生长竞争研究 | 第37-47页 |
| ·实验 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第5章 倾斜衬底上制备 YSZ 缓冲层的探索研究 | 第47-51页 |
| ·实验 | 第47-48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-50页 |
| ·A 组IBAD 实验结果 | 第48-49页 |
| ·B 组non-IBAD 实验结果 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 附录 A 离子束辅助沉积(IBAD)系统介绍 | 第59-70页 |
| 附录 B 温度对non-IBAD 样品的影响 | 第70-73页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |