富电子氮杂环有机硅化合物与卤代硼烷反应的研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-8页
第1章绪论第8-20页
    1.1课题背景及研究的目的和意义第8页
    1.2低价硼物种的合成及发展概况第8-14页
        1.2.1低价硼物种的电子结构及稳定策略第8-9页
        1.2.2低价硼的合成与发展第9-14页
    1.3氮杂环有机硅化合物作还原剂的研究进展第14-17页
    1.41,3-氢迁移反应的研究进展第17-18页
    1.5本论文的主要研究内容第18-20页
第2章实验材料及方法第20-25页
    2.1实验药品及溶剂第20-21页
    2.2实验所用原料的制备第21-24页
        2.2.1原料化合物1-3的制备第21-22页
        2.2.2原料化合物4-7的制备第22页
        2.2.3原料环烷基氮杂环卡宾的制备第22-23页
        2.2.4原料叔丁基异腈的制备第23-24页
    2.3实验仪器第24页
    2.4表征方法第24-25页
第3章化合物8-12的合成及反应性测试第25-40页
    3.1引言第25页
    3.2化合物(TMS)C4N2Me4(ArBX)(8-12)的合成及分析第25-31页
        3.2.1化合物(TMS)C4N2Me4(ArBX)(8-12)的结构分析第25-28页
        3.2.2化合物(TMS)C4N2Me4(ArBX)(8-12)的反应性测试第28-31页
    3.3实验部分第31-38页
        3.3.1化合物(TMS)C4N2Me4(ArBX)(8-12)的合成及表征第31-34页
        3.3.2化合物8和化合物16的晶体测试第34-38页
    3.4本章小结第38-40页
第4章化合物17-24的合成及分析第40-66页
    4.1引言第40页
    4.2化合物17-24的核磁、晶体结构及反应性分析第40-49页
        4.2.1化合物C4N2Me4(ArBX)2(17-23)的核磁及晶体结构分析第40-47页
        4.2.2化合物((TMS)C4N22BDur(24)的结构分析第47-49页
        4.2.3化合物((TMS)C4N22BDur(24)的反应性测试第49页
    4.3实验部分第49-64页
        4.3.1化合物(TMS)C4N2Me4(ArBX)(17-24)的合成及表征第49-53页
        4.3.2化合物(TMS)C4N2Me4(ArBX)(17-24)的晶体测试第53-64页
    4.4本章小结第64-66页
第5章化合物25的合成及分析第66-75页
    5.1引言第66页
    5.2化合物[C5NBClN(TMS)2]2(25)的结构及计算分析第66-69页
    5.3实验部分第69-74页
        5.3.1化合物[C5NBClN(TMS)2]2(25)的合成及表征第69-70页
        5.3.2化合物[C5NBClN(TMS)2]2(25a)的晶体测试第70-72页
        5.3.3化合物[C5NBClN(TMS)2]2(25a)的DFT计算第72-74页
    5.4本章小结第74-75页
结论第75-76页
参考文献第76-80页
附录核磁共振谱图第80-100页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第100-102页
致谢第102-103页

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