吸收度调制激光直写关键技术研究
| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 光学超分辨技术介绍 | 第12-15页 |
| 1.2 光学超分辨光刻技术研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3 吸收度调制激光直写技术 | 第17-20页 |
| 1.3.1 激光直写技术介绍 | 第17-18页 |
| 1.3.2 吸收度调制激光直写研究现状 | 第18-20页 |
| 1.4 研究目标与内容 | 第20-23页 |
| 1.4.1 课题研究目标与内容 | 第20-21页 |
| 1.4.2 本文章节安排 | 第21-23页 |
| 2 吸收度调制激光直写的理论研究 | 第23-39页 |
| 2.1 涡旋光 | 第23-27页 |
| 2.1.1 涡旋光及其基本特性 | 第23-25页 |
| 2.1.2 涡旋光的产生方式 | 第25-27页 |
| 2.2 光致变色层的吸收度调制 | 第27-33页 |
| 2.2.1 基于光致变色效应的吸收度调制原理 | 第27-28页 |
| 2.2.2 光致变色层的吸收度调制模型 | 第28-33页 |
| 2.3 光刻胶层的曝光 | 第33-35页 |
| 2.4 影响吸收度调制激光直写性能的因素分析 | 第35-38页 |
| 2.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 3 复合胶层理论和工艺研究 | 第39-58页 |
| 3.1 光致变色层理论研究 | 第39-42页 |
| 3.1.1 光致变色材料及其种类 | 第39-42页 |
| 3.1.2 光致变色材料的成膜 | 第42页 |
| 3.2 光刻胶层理论研究 | 第42-44页 |
| 3.2.1 光刻胶及其技术参数 | 第42-43页 |
| 3.2.2 正负光刻胶的区别 | 第43-44页 |
| 3.3 复合胶层材料的选择 | 第44-49页 |
| 3.3.1 复合胶层的“困境” | 第44-46页 |
| 3.3.2 本课题复合胶层材料的选择 | 第46-49页 |
| 3.4 本课题吸收度调制激光直写的工艺流程 | 第49-50页 |
| 3.5 本课题复合胶层的工艺研究 | 第50-57页 |
| 3.5.1 光致变色层和光刻胶层兼容性研究 | 第50-53页 |
| 3.5.2 光刻胶层性能测试 | 第53-54页 |
| 3.5.3 光致变色层性能测试 | 第54-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 4 涡旋光对焦的吸收度调制激光直写系统的构建 | 第58-74页 |
| 4.1 系统软硬件模块 | 第58-62页 |
| 4.1.1 光源和合束模块 | 第58-59页 |
| 4.1.2 复合胶层模块 | 第59-60页 |
| 4.1.3 运动平台模块 | 第60页 |
| 4.1.4 系统控制软件 | 第60-62页 |
| 4.2 直写系统的校准 | 第62-64页 |
| 4.2.1 准直合束 | 第62-63页 |
| 4.2.2 系统调平 | 第63-64页 |
| 4.2.3 系统调焦 | 第64页 |
| 4.3 涡旋光剪切干涉对焦方案 | 第64-73页 |
| 4.3.1 现有对焦技术分析 | 第64-67页 |
| 4.3.2 涡旋光干涉特性 | 第67-68页 |
| 4.3.3 涡旋光剪切干涉对焦方案原理 | 第68-72页 |
| 4.3.4 涡旋光剪切干涉对焦的初步实现 | 第72-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 5 总结和展望 | 第74-76页 |
| 5.1 本文总结 | 第74页 |
| 5.2 未来展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 作者简介及硕士期间主要研究成果 | 第80页 |
