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基于凸优化的时间调制稀布阵列副瓣抑制算法研究

摘要第4-5页
abstract第5页
缩略词第10-11页
第一章 绪论第11-19页
    1.1 研究背景及意义第11-12页
    1.2 国内外研究现状第12-16页
        1.2.1 三维阵列方向图综合研究现状第12-14页
        1.2.2 四维天线阵的副瓣抑制第14-15页
        1.2.3 稀疏阵列副瓣抑制第15-16页
    1.3 本文的主要研究内容第16-19页
第二章 时间调制天线阵的理论基础第19-33页
    2.1 引言第19页
    2.2 四维天线阵的阵列结构及辐射模型第19-23页
        2.2.1 阵列结构第19-20页
        2.2.2 阵列辐射模型第20-23页
    2.3 时间调制方式第23-30页
        2.3.1 可变孔径尺寸(VAS)调制第24-25页
        2.3.2 单向相位中心移动(UPCM)调制第25-26页
        2.3.3 双向相位中心移动(BPCM)调制第26-27页
        2.3.4 脉冲移动(PS)调制第27-28页
        2.3.5 分段优化时间步(SOTS)调制第28-30页
    2.4 辐射方向图参数第30-31页
    2.5 本章小结第31-33页
第三章 基于凸优化算法的四维稀布线阵副瓣抑制第33-57页
    3.1 引言第33页
    3.2 凸优化算法的基本原理第33-34页
    3.3 基于凸优化算法的四维均匀稀布线阵副瓣抑制第34-42页
        3.3.1 四维均匀稀布线阵建模及优化目标函数构造第34-36页
        3.3.2 基于凸优化算法的四维均匀稀布线阵副瓣抑制仿真分析第36-42页
    3.4 基于PSO-CVX算法的四维稀布线阵副瓣抑制第42-53页
        3.4.1 粒子群算法原理第42-43页
        3.4.2 四维非均匀稀布线阵建模及优化目标函数构造第43-46页
        3.4.3 基于PSO-CVX算法的四维稀布线阵副瓣抑制仿真分析第46-53页
    3.5 边带电平分析第53-55页
    3.6 本章小结第55-57页
第四章 基于改进的PSO-CVX算法的四维稀布线阵边带抑制第57-72页
    4.1 引言第57页
    4.2 PS调制方式下的四维稀布阵优化目标模型第57-61页
        4.2.1 PS调制方式下阵列辐射模型第57-59页
        4.2.2 改进的四维稀布阵优化目标模型第59-61页
    4.3 基于副瓣电平约束的四维稀布线阵边带抑制仿真第61-69页
        4.3.1 等幅同相激励稀布线阵仿真结果第62-65页
        4.3.2 等幅非同相激励稀布线阵仿真结果第65-69页
    4.4 对比试验第69-71页
    4.5 本章小结第71-72页
第五章 结束语第72-75页
    5.1 全文总结第72-73页
    5.2 工作展望第73-75页
参考文献第75-81页
致谢第81-82页
在学期间的研究成果及发表的学术论文第82-83页

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